Volgens Intel-bestuur, wanneer die mikroverwerkerreus se eerste 7nm-produkte in twee jaar debuteer, sal hulle met 5nm produkte van Taiwanese TSMC. Ja, maar nie so nie. Taiwanese bronne wat anonieme verteenwoordigers van die eilandbedryf aanhaal dat Intel in 2021 TSMC se verbeterde 5nm-prosestegnologie sal moet hanteer. Dit sal die N5+- of 5 nm Plus-prosestegnologie wees – die tweede generasie van die 5 nm-prosestegnologie van die wêreld se grootste kontrakskyfievervaardiger.
Soos u weet, soos TSMC-bestuur gereeld herinner, het die maatskappy riskante produksie met 5 nm-standaarde in die eerste kwartaal van hierdie jaar van stapel gestuur. Massaproduksie met 5 nm (5N) standaarde in die eerste of tweede kwartaal van 2020. Daar is een nuanse in die presiese tydsberekening van die bekendstelling van massaproduksie met 5 nm-standaarde deur TSMC. Om met hierdie tegnologiese standaarde te werk, bou die maatskappy 'n nuwe aanleg - die Fab 18-aanleg. Sodra Fab 18 gereed is , Ons kan praat oor die begin van produksie met 5 nm standaarde. Hierdie proses kan strek vanaf die einde van 2019 tot die tweede kwartaal van 2020 ingesluit. Maar selfs al neem ons spertye, sal TSMC nie later as April-Junie 5 kommersiële produksie met 2020 nm-standaarde bekendstel nie.
Uit bogenoemde volg dit dat die maatskappy riskante produksie met N5+-standaarde of 'n verbeterde 5nm-prosestegnologie in die eerste kwartaal van 2020 sal begin. Die bron sê dit direk. ’n Jaar later sal die maatskappy gereed wees om massaproduksie van skyfies te begin deur die N5+-prosestegnologie te gebruik. Dit is hierdie prosestegnologie waarmee Intel sy vervaardigingsprestasies sal moet vergelyk wanneer hy sy eerste 2021nm-diskrete grafiese verwerkers in 7 bekendstel. AMD en NVIDIA, as jarelange kliënte van TSMC, het teen hierdie tyd alle kans om beide 5-nm GPU's vry te stel en het planne om grafiese oplossings op 'n verbeterde 5-nm-prosestegnologie bekend te stel.
Tot op hede is daar niks te sê oor die TSMC N5+ prosestegnologie nie, behalwe vir een ding. Hierdie proses sal gedeeltelik EUV-skandeerders gebruik. Die gebruiksdiepte van 13,5 nm-skandeerders sal bepaal hoeveel beter die N5+-proses is as die N5-proses.
Bron: 3dnews.ru