«Извън EUV»: Lace Lithography подготвя литография на атоми на хелий с разрешение 0,1 нм.

Норвежкият стартъп Lace Lithography, с подкрепата на Microsoft, привлече 40 млн. долара в рамките на първия кръг на финансиране за разработка на литографски скенер, използващ сноп от хелиеви атоми при обработката на силициеви пластини. Компанията твърди, че технологията ѝ ще позволи създаването на елементи на чипове с десет пъти по-малки размери в сравнение с настоящите системи за литография, със ширина на снопа едва 0,1 нм — EUV-скенерите на ASML използват радиация с дължина на вълната 13,5 нм.

Предимството на системата Lace е, че атомите нямат дифракционен предел, докато фотонната литография, включително системите EUV на ASML, е ограничена от дължината на вълната на използваната светлина. Докато производителите на микрочипове намаляват размерите на елементите, те разчитат на все по-сложни методи за многослойно оформяне на шаблон, за да заобиколят това ограничение, но Lace използва друг подход, заменяйки фотоните с неутрални хелиеви атоми и сноп, ширината на който е приблизително равна на ширината на един водороден атом.

Lace описва своите системи като BEUV, или Beyond-EUV ("извън EUV"). Изпълнителният директор и съосновател на Lace Бодил Хольст (Bodil Holst) заяви, че разработената от компанията технология ще позволи на производителите на микрочипове да печатат пластини с "в крайна сметка атомно разрешение". Научният директор по литографията в Imec Джон Петерсен (John Petersen) счита, че този подход може да намали транзисторите и другите елементи с порядък, до "почти непредставима" степен.

Lace се присъедини към нарастващия брой стартъпи, разработващи алтернативи на напредналата литография на ASML. Американските компании Substrate и xLight разработват източници на светлина, базирани на ускорители на частици, за EUV- или рентгенова литография, като xLight е получила 150 млн. долара държавно финансиране от САЩ. Canon достави първия си инструмент за наноимпринтна литография на Тексаския институт по електроника още през септември 2024 г., а китайската компания Prinano наскоро представи собствена система за наноимпринтна литография на вътрешния пазар.

Подходът на Lace се различава значително от тези компании. Докато Substrate и xLight все още използват фотони, Lace напълно се отказва от електромагнитното лъчение. Компанията вече е създала прототипи на системата, но разликата между лабораторията и производството е, както винаги, огромна. В момента Lace планира да разположи експериментална установка на пилотния завод до 2029 година, а сроковете за преминаване към серийно производство все още не са обявени.

Важно е да се отбележи, че ASML е инвестирала десетилетия и милиарди долари, за да превърне EUV литографията от изследователска концепция в търговски продукт. В Lace в момента работят над 50 души в Норвегия, Испания, Великобритания и Нидерландия, а първите резултати от изследванията си компанията представи за първи път на конференцията SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026.

Източник:

• tomshardware.com

Източник: 3dnews.ru