«Извън EUV»: Lace Lithography подготвя литография на атоми на хелий с резолюция 0,1 нм

Норвегийският стартъп Lace Lithography, с подкрепата на Microsoft, привлече $40 млн в първия си кръг на финансиране за разработване на литографски скенер, който използва поток от хелиеви атоми при обработката на силициеви пластини. Компанията твърди, че технологията ѝ ще позволи създаването на елементи на чипове с размери 10 пъти по-малки от съществуващите литографски системи, с ширина на потока от само 0,1 нм — EUV скенерите на ASML използват излъчване с дължина на вълната 13,5 нм.

Предимството на системата Lace е, че атомите нямат дифракционна граница, докато фотонната литография, включително EUV системите на ASML, е ограничена от дължината на вълната на използваната светлина. Докато производителите на микрочипове намаляват размерите на елементите, те разчитат на все по-комплексни методи за многослойно формиране на шаблона, за да заобиколят това ограничение, но Lace използва различен подход, заменяйки фотоните с неутрални хелиеви атоми и поток, чиято ширина е приблизително равна на ширината на един водороден атом.

Lace описва своите системи като BEUV, или Beyond-EUV („извън EUV“). Генералният директор и съосновател на Lace, Бодил Хольст, заяви, че разработената от компанията технология ще позволи на производителите на микрочипове да печатат пластини с „най-накрая атомно разрешение“. Научният директор по литография в Imec, Джон Петерсен, смята, че този подход може да намали транзисторите и другите елементи с един ред, до „почти немислимо“ ниво.

Lace се присъедини към нарастващия брой стартиращи компании, които разработват алтернативи на авансовата литография на ASML. Американските компании Substrate и xLight разработват източници на светлина на базата на ускорители на частици за EUV или рентгенова литография, като xLight е получила $150 млн държавно финансиране от САЩ. Canon достави първия си инструмент за наноимпринтна литография на Тексаския институт по електроника още през септември 2024 г., а китайската компания Prinano наскоро представи собствената си система за наноимпринтна литография на вътрешния пазар.

Подходът на Lace се различава от всички тези компании. Докато Substrate и xLight все още използват фотони, Lace напълно се отказва от електромагнитното излъчване. Въпреки че Lace вече е създала прототипи на системата, разликата между лабораторията и производството, както винаги, е огромна. В момента компанията планира да внедри изпитателен стенд в пилотното си предприятие до 2029 година, а сроковете за преминаване към серийно производство все още не са обявени.

Трябва да се отбележи, че ASML е прекарала десетилетия и милиарди долари, за да превърне EUV литографията от изследователска концепция в търговски продукт. В Lace в момента работят повече от 50 души в Норвегия, Испания, Великобритания и Нидерландия, а първите резултати от своите изследвания компанията за първи път представи на конференцията SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026.

Източник:

• tomshardware.com

Източник: 3dnews.ru