«Извън EUV»: Lace Lithography подготвя литография на атоми на хелий с резолюция 0,1 нм
Норвежкият стартъп Lace Lithography, с подкрепата на Microsoft, привлече 40 милиона долара в рамките на първия кръг на финансиране за разработването на литографски скенер, който използва лъч от хелиеви атоми при обработката на кремниеви плочи. Компанията твърди, че технологията й ще позволи създаването на елементи на чипове с 10 пъти по-малки размери от съществуващите литографски системи, с ширина на лъча от само 0.1 nm — EUV скенерите на ASML използват […]
