ইউএস লেজারগুলি বেলজিয়ামের বিজ্ঞানীদের 3nm প্রক্রিয়া প্রযুক্তি এবং তার পরেও ব্রেক করতে সহায়তা করবে

IEEE স্পেকট্রাম ওয়েবসাইট অনুসারে, ফেব্রুয়ারির শেষ থেকে মার্চের শুরুর দিকে, বেলজিয়ামের কেন্দ্র Imec-এর ভিত্তিতে আমেরিকান কোম্পানি KMLabs-এর সাথে EUV বিকিরণের প্রভাবে সেমিকন্ডাক্টর ফটোলিথোগ্রাফির সমস্যা অধ্যয়নের জন্য একটি পরীক্ষাগার তৈরি করা হয়েছিল (অতি-হার্ডে। অতিবেগুনী পরিসীমা)। মনে হবে, পড়ালেখা করার কী আছে? না, অধ্যয়নের জন্য একটি বিষয় আছে, কিন্তু এর জন্য একটি নতুন গবেষণাগার স্থাপন কেন? স্যামসাং অর্ধেক বছর আগে EUV রেঞ্জ স্ক্যানারগুলির আংশিক ব্যবহারের সাথে 7nm চিপ উত্পাদন শুরু করেছিল। TSMC শীঘ্রই যোগদান করা হবে. বছরের শেষ নাগাদ, উভয়ই 5 এনএম স্ট্যান্ডার্ড সহ ঝুঁকিপূর্ণ উত্পাদন শুরু করবে, ইত্যাদি। এবং এখনও সমস্যা আছে, এবং তারা গবেষণাগারে প্রশ্নের উত্তর খোঁজার জন্য যথেষ্ট গুরুতর, উৎপাদনে নয়।

EUV লিথোগ্রাফির প্রধান সমস্যা আজ ফটোরসিস্টের গুণমান রয়ে গেছে। ইইউভি বিকিরণের উত্স হল প্লাজমা, লেজার নয়, যেমনটি পুরানো 193nm স্ক্যানারগুলির ক্ষেত্রে। লেজার একটি বায়বীয় মাধ্যমে সীসার একটি ফোঁটা বাষ্পীভূত করে এবং ফলস্বরূপ বিকিরণ ফোটন নির্গত করে, যার শক্তি অতিবেগুনী বিকিরণ সহ স্ক্যানারগুলিতে ফোটনের শক্তির চেয়ে 14 গুণ বেশি। ফলস্বরূপ, ফটোরসিস্ট কেবল সেই জায়গাগুলিতেই ধ্বংস হয় যেখানে এটি ফোটন দ্বারা বোমাবর্ষিত হয়, তবে তথাকথিত ভগ্নাংশের শব্দ প্রভাবের কারণে এলোমেলো ত্রুটিগুলিও ঘটে। ফোটনের শক্তি খুব বেশি। EUV স্ক্যানারগুলির সাথে পরীক্ষাগুলি দেখায় যে ফটোরেসিস্ট, যা এখনও 7 এনএম মানগুলির সাথে কাজ করতে সক্ষম, 5 এনএম সার্কিটে তৈরি করা হলে প্রত্যাখ্যানের একটি সমালোচনামূলকভাবে উচ্চ স্তরের প্রদর্শন করে৷ সমস্যাটি এতটাই গুরুতর যে অনেক বিশেষজ্ঞ 5nm প্রক্রিয়া প্রযুক্তির প্রথম সফল প্রবর্তনে বিশ্বাস করেন না, 3nm এবং নীচের পরিবর্তনের কথা উল্লেখ করেন না।

নতুন প্রজন্মের ফটোরেসিস্ট তৈরির সমস্যা সমাধান করা হবে Imec এবং KMLabs-এর যৌথ পরীক্ষাগারে। এবং তারা এটি একটি বৈজ্ঞানিক পদ্ধতির দৃষ্টিকোণ থেকে সমাধান করবে, এবং বিকারক নির্বাচন করে নয়, যেমনটি গত ত্রিশ-কিছু বছরে করা হয়েছে। এটি করার জন্য, বৈজ্ঞানিক অংশীদাররা ফটোরেসিস্টে শারীরিক এবং রাসায়নিক প্রক্রিয়াগুলির বিশদ অধ্যয়নের জন্য একটি সরঞ্জাম তৈরি করবে। সাধারণত, সিঙ্ক্রোট্রনগুলি আণবিক স্তরে প্রক্রিয়াগুলি অধ্যয়ন করতে ব্যবহৃত হয়, তবে Imec এবং KMLabs ইনফ্রারেড লেজারের উপর ভিত্তি করে প্রজেকশন এবং পরিমাপ EUV সরঞ্জাম তৈরি করতে চলেছে। KMLabs শুধুমাত্র লেজার সিস্টেমের একজন বিশেষজ্ঞ।

 

KMLabs লেজার সুবিধার উপর ভিত্তি করে, উচ্চ হারমোনিক্স তৈরির জন্য একটি প্ল্যাটফর্ম তৈরি করা হবে। সাধারণত, এটির জন্য, একটি উচ্চ-তীব্রতার লেজার পালস একটি বায়বীয় মাধ্যমের দিকে পরিচালিত হয়, যেখানে নির্দেশিত নাড়ির খুব উচ্চ ফ্রিকোয়েন্সি হারমোনিক্স ঘটে। এই ধরনের একটি রূপান্তরের সাথে, একটি উল্লেখযোগ্য শক্তি হ্রাস ঘটে, যাতে EUV বিকিরণ তৈরির অনুরূপ নীতি অর্ধপরিবাহী লিথোগ্রাফির জন্য সরাসরি ব্যবহার করা যায় না। তবে এটি পরীক্ষার জন্য যথেষ্ট। সবচেয়ে গুরুত্বপূর্ণ, ফলস্বরূপ বিকিরণ পিকোসেকেন্ড (10-12) থেকে অ্যাটোসেকেন্ড (10-18) পর্যন্ত নাড়ির সময়কাল এবং 6,5 nm থেকে 47 nm পর্যন্ত তরঙ্গদৈর্ঘ্য দ্বারা উভয়ই নিয়ন্ত্রণ করা যেতে পারে। একটি পরিমাপ সরঞ্জামের জন্য, এইগুলি মূল্যবান গুণাবলী। তারা ফটোরেসিস্ট, আয়নকরণ প্রক্রিয়া এবং উচ্চ শক্তি ফোটনের এক্সপোজারে অতি দ্রুত আণবিক পরিবর্তনের প্রক্রিয়াগুলি অধ্যয়ন করতে সহায়তা করবে। এটি ছাড়া, 3 এবং এমনকি 5 এনএম এর কম মান সহ শিল্প ফটোলিথোগ্রাফি প্রশ্নে রয়ে গেছে।

উত্স: 3dnews.ru