Segons la direcció d'Intel, quan els primers productes de 7 nm del gegant dels microprocessadors debutin en dos anys, amb productes de 5 nm de TSMC taiwanès. Sí, però no és així. Fonts taiwaneses que citen representants anònims de la indústria insular que el 2021 Intel haurà de fer front a la tecnologia de procés millorada de 5 nm de TSMC. Aquesta serà la tecnologia de procés N5+ o 5 nm Plus: la segona generació de la tecnologia de procés de 5 nm del fabricant de xips per contracte més gran del món.
Com sabeu, com recorda regularment la direcció de TSMC, l'empresa va llançar una producció arriscada amb estàndards de 5 nm el primer trimestre d'aquest any. Producció en sèrie amb estàndards de 5 nm (5N). en el primer o segon trimestre de 2020. Hi ha un matís en el moment exacte del llançament de la producció en massa amb estàndards de 5 nm per part de TSMC. Per treballar amb aquests estàndards tecnològics, l'empresa està construint una nova planta: la planta Fab 18. Tan bon punt estigui llest Fab 18 , podem parlar de l'inici de la producció amb estàndards de 5 nm. Aquest procés pot allargar-se des de finals de 2019 fins al segon trimestre de 2020, ambdós inclosos. Però fins i tot si agafem els terminis, TSMC llançarà la producció comercial amb estàndards de 5 nm com a molt tard d'abril a juny de 2020.
De l'anterior es dedueix que la companyia començarà una producció arriscada amb estàndards N5+ o una tecnologia de procés millorada de 5 nm el primer trimestre del 2020. La font ho diu directament. Un any més tard, l'empresa estarà preparada per començar la producció massiva de xips utilitzant la tecnologia de procés N5+. És aquesta tecnologia de procés amb la qual Intel haurà de comparar els seus èxits de fabricació amb quan introdueixi els seus primers processadors de gràfics discrets de 2021 nm el 7. AMD i NVIDIA, com a clients de llarga data de TSMC, en aquest moment tenen totes les possibilitats de llançar les dues GPU de 5 nm i tenen plans per llançar solucions gràfiques amb una tecnologia de procés millorada de 5 nm.
Fins ara, no hi ha res a dir sobre la tecnologia de procés TSMC N5+, tret d'una cosa. Aquest procés utilitzarà parcialment escàners EUV. La profunditat d'ús dels escàners de 13,5 nm determinarà quant millor és el procés N5+ que el procés N5.
Font: 3dnews.ru