Norský startup Lace Lithography s podporou Microsoft získal 40 milionů dolarů v rámci prvního kola financování pro vývoj litografického skeneru, který používá svazek helium atomů při zpracování křemíkových desek. Společnost tvrdí, že její technologie umožní výrobu prvků čipů v desetinásobně menších rozměrech než stávající litografické systémy, s šířkou svazku pouhých 0,1 nm — EUV skenery ASML využívají záření s vlnovou délkou 13,5 nm.
Výhodou systému Lace je, že atomy nemají difrakční mez, zatímco fotonová litografie, včetně EUV systémů od ASML, je omezena vlnovou délkou použitého světla. Jak se výrobci čipů snaží zmenšit rozměry prvků, spoléhají na stále složitější metody vícestupňového formování vzorů, aby toto omezení překonali, ale Lace používá jiný přístup, nahrazuje fotony neutrálními atomy helia a svazkem, jehož šířka se přibližně rovná šířce jednoho atomu vodíku.
Lace popisuje své systémy jako BEUV, nebo Beyond-EUV ("za hranicemi EUV"). Generální ředitelka a spoluzakladatelka Lace Bodil Holst uvedla, že technologie vyvinutá společností umožní výrobcům čipů tisknout desky s "nakonec atomovým rozlišením". Vědecký ředitel pro litografii Imec John Petersen věří, že tento přístup může snížit tranzistory a další prvky o řád, téměř na "nepředstavitelnou" úroveň.
Lace se připojila k rostoucímu počtu startupů vyvíjejících alternativy k pokročilé litografii ASML. Americké společnosti Substrate a xLight vyvíjejí zdroje světla založené na urychlovačích částic pro EUV nebo rentgenovou litografii, přičemž xLight získala 150 milionů dolarů státního financování USA. Canon dodala svůj první nástroj pro nanoimprintovou litografii na Texaský institut elektroniky již v září 2024 a čínská společnost Prinano nedávno představila vlastní systém nanoimprintové litografie na domácím trhu.
Nicméně přístup Lace se liší od všech těchto společností. Zatímco Substrate a xLight stále používají fotony, Lace se zcela vzdává elektromagnetického záření. Ačkoli Lace již vytvořila prototypy systému, propast mezi laboratoří a výrobou je, jako vždy, obrovská. V současné době společnost plánuje nasadit zkušební zařízení v pilotním podniku do roku 2029, a zatím nebyly oznámeny žádné termíny pro přechod na sériovou výrobu.
Je třeba poznamenat, že ASML strávila desetiletí a miliardy dolarů tím, že přeměnila EUV litografii z výzkumné koncepce na komerční produkt. V Lace nyní pracuje více než 50 lidí v Norsku, Španělsku, Spojeném království a Nizozemsku a své první výsledky výzkumu společnost poprvé představila na konferenci SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026.
Zdroj:
Zdroj: 3dnews.ru
