Den norske startup Lace Lithography, støttet af Microsoft, har rejst $40 millioner i en initial finansieringsrunde til udviklingen af en litografisk scanner, der bruger en bue af heliumatomer til at bearbejde silikoneplader. Virksomheden hævder, at deres teknologi vil gøre det muligt at skabe chipkomponenter, der er ti gange mindre end eksisterende litografisystemer, med en buens bredde på kun 0,1 nm — EUV-scannere fra ASML bruger stråling med en bølgelængde på 13,5 nm.
Fordelen ved Lace-systemet er, at atomer ikke har en diffraktionsgrænse, mens fotolitografi, inklusive EUV-systemer fra ASML, er begrænset af bølgelængden af den anvendte lys. Efterhånden som chipproducenter reducerer størrelsen af komponenterne, tyer de til stadig mere komplekse metoder til flerlagsskabning af mønstre for at omgå denne begrænsning, men Lace anvender en anden tilgang, hvor fotoner erstattes med neutrale heliumatomer og en bue, hvis bredde omtrent svarer til bredden på et hydrogenatom.
Lace beskriver sine systemer som BEUV, eller Beyond-EUV ("beyond EUV"). Administrerende direktør og medstifter af Lace, Bodil Holst, udtalte, at virksomhedens udviklede teknologi vil gøre det muligt for chipproducenter at printe plader med "i sidste ende atomart opløsning". Forskningchef for litografi ved Imec, John Petersen, mener, at denne tilgang kan reducere transistorer og andre elementer med en orden, til en "næsten ufattelig" grad.
Lace er blevet en del af det voksende antal startups, der udvikler alternativer til den avancerede litografi fra ASML. Amerikanske virksomheder som Substrate og xLight arbejder på lyskilder baseret på partikelacceleratorer til EUV- eller røntgenlitografi, mens xLight har modtaget $150 millioner i offentlig finansiering fra USA. Canon leverede sit første værktøj til nanoimprint-litografi til Texas Institute of Electronics allerede i september 2024, og det kinesiske firma Prinano har for nylig præsenteret sit eget nanoimprint-litografi-system på det indenlandske marked.
Men Lace's tilgang adskiller sig fra alle disse virksomheder. Mens Substrate og xLight stadig bruger fotoner, afstår Lace helt fra elektromagnetisk stråling. Selvom Lace allerede har udviklet prototyper af systemet, er kløften mellem laboratoriet og produktionen, som altid, enorm. I øjeblikket planlægger virksomheden at implementere et teststation på et pilotanlæg inden 2029, mens tidsrammerne for at gå over til serieproduktion endnu ikke er kendt.
Det skal bemærkes, at ASML har brugt årtier og milliarder af dollars på at forvandle EUV-litografi fra et forskningskoncept til et kommercielt produkt. I øjeblikket arbejder mere end 50 personer for Lace i Norge, Spanien, Storbritannien og Holland, og virksomhedens første resultater fra sine undersøgelser blev præsenteret på konferencen SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026.
Kilde:
Kilde: 3dnews.ru
