{"id":166072,"date":"2026-03-24T23:13:48","date_gmt":"2026-03-24T21:13:51","guid":{"rendered":"https:\/\/prohoster.info\/blog\/novosti-interneta\/za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm"},"modified":"2026-03-27T13:27:33","modified_gmt":"2026-03-27T11:27:33","slug":"za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/prohoster.info\/da\/blog\/news\/za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm","title":{"rendered":"\u00abUden for EUV\u00bb: Lace Lithography forbereder lithografi ved hj\u00e6lp af heliumatomer med en opl\u00f8sning p\u00e5 0,1 nm","gt_translate_keys":[{"key":"rendered","format":"text"}]},"content":{"rendered":"

Den norske startup Lace Lithography, st\u00f8ttet af Microsoft, har rejst $40 millioner i en initial finansieringsrunde til udviklingen af en litografisk scanner, der bruger en bue af heliumatomer til at bearbejde silikoneplader. Virksomheden h\u00e6vder, at deres teknologi vil g\u00f8re det muligt at skabe chipkomponenter, der er ti gange mindre end eksisterende litografisystemer, med en buens bredde p\u00e5 kun 0,1 nm \u2014 EUV-scannere fra ASML bruger str\u00e5ling med en b\u00f8lgel\u00e6ngde p\u00e5 13,5 nm.<\/p>\n

<\/center>\"\u00abUden<\/p>\n

Fordelen ved Lace-systemet er, at atomer ikke har en diffraktionsgr\u00e6nse, mens fotolitografi, inklusive EUV-systemer fra ASML, er begr\u00e6nset af b\u00f8lgel\u00e6ngden af den anvendte lys. Efterh\u00e5nden som chipproducenter reducerer st\u00f8rrelsen af komponenterne, tyer de til stadig mere komplekse metoder til flerlagsskabning af m\u00f8nstre for at omg\u00e5 denne begr\u00e6nsning, men Lace anvender en anden tilgang, hvor fotoner erstattes med neutrale heliumatomer og en bue, hvis bredde omtrent svarer til bredden p\u00e5 et hydrogenatom.<\/p>\n

Lace beskriver sine systemer som BEUV, eller Beyond-EUV (\"beyond EUV\"). Administrerende direkt\u00f8r og medstifter af Lace, Bodil Holst, udtalte, at virksomhedens udviklede teknologi vil g\u00f8re det muligt for chipproducenter at printe plader med \"i sidste ende atomart opl\u00f8sning\". Forskningchef for litografi ved Imec, John Petersen, mener, at denne tilgang kan reducere transistorer og andre elementer med en orden, til en \"n\u00e6sten ufattelig\" grad.<\/p>\n

Lace er blevet en del af det voksende antal startups, der udvikler alternativer til den avancerede litografi fra ASML. Amerikanske virksomheder som Substrate og xLight arbejder p\u00e5 lyskilder baseret p\u00e5 partikelacceleratorer til EUV- eller r\u00f8ntgenlitografi, mens xLight har modtaget $150 millioner i offentlig finansiering fra USA. Canon leverede sit f\u00f8rste v\u00e6rkt\u00f8j til nanoimprint-litografi til Texas Institute of Electronics allerede i september 2024, og det kinesiske firma Prinano har for nylig pr\u00e6senteret sit eget nanoimprint-litografi-system p\u00e5 det indenlandske marked.<\/p>\n

Men Lace's tilgang adskiller sig fra alle disse virksomheder. Mens Substrate og xLight stadig bruger fotoner, afst\u00e5r Lace helt fra elektromagnetisk str\u00e5ling. Selvom Lace allerede har udviklet prototyper af systemet, er kl\u00f8ften mellem laboratoriet og produktionen, som altid, enorm. I \u00f8jeblikket planl\u00e6gger virksomheden at implementere et teststation p\u00e5 et pilotanl\u00e6g inden 2029, mens tidsrammerne for at g\u00e5 over til serieproduktion endnu ikke er kendt.<\/p>\n

Det skal bem\u00e6rkes, at ASML har brugt \u00e5rtier og milliarder af dollars p\u00e5 at forvandle EUV-litografi fra et forskningskoncept til et kommercielt produkt. I \u00f8jeblikket arbejder mere end 50 personer for Lace i Norge, Spanien, Storbritannien og Holland, og virksomhedens f\u00f8rste resultater fra sine unders\u00f8gelser blev pr\u00e6senteret p\u00e5 konferencen SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026.<\/p>\n

Kilde:<\/strong><\/p>\n