„Jenseits von EUV“: Lace Lithography bereitet die Lithografie mit Helium-Atomen mit einer Auflösung von 0,1 nm vor
Das norwegische Startup Lace Lithography hat mit Unterstützung von Microsoft 40 Millionen Dollar in einer ersten Finanzierungsrunde gesammelt, um einen lithografischen Scanner zu entwickeln, der einen Heliumstrahl zur Bearbeitung von Siliziumwafern nutzt. Das Unternehmen behauptet, dass seine Technologie es ermöglichen wird, Chipelemente zu schaffen, die zehnmal kleiner sind als bestehende Lithographiesysteme, mit einer Strahlbreite von nur 0,1 nm — EUV-Scanner von ASML verwenden […]
