{"id":166072,"date":"2026-03-24T23:13:48","date_gmt":"2026-03-24T21:13:51","guid":{"rendered":"https:\/\/prohoster.info\/blog\/novosti-interneta\/za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm"},"modified":"2026-03-27T13:27:33","modified_gmt":"2026-03-27T11:27:33","slug":"za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/prohoster.info\/de\/blog\/news\/za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm","title":{"rendered":"\u201eAu\u00dferhalb der EUV\u201c: Lace Lithography bereitet die Lithografie auf Heliumatomen mit einer Aufl\u00f6sung von 0,1 nm vor","gt_translate_keys":[{"key":"rendered","format":"text"}]},"content":{"rendered":"

Das norwegische Startup Lace Lithography hat mit Unterst\u00fctzung von Microsoft 40 Millionen USD in einer ersten Finanzierungsrunde f\u00fcr die Entwicklung eines Lithographiescanners, der einen Heliumatomstrahl bei der Bearbeitung von Siliziumwafern verwendet, gesammelt. Das Unternehmen behauptet, dass seine Technologie es erm\u00f6glichen wird, Chip-Elemente mit einer 10-mal kleineren Gr\u00f6\u00dfe als die bestehenden Lithographiesysteme zu erstellen, mit einer Strahlbreite von nur 0,1 nm \u2013 EUV-Scanner von ASML verwenden eine Strahlung mit einer Wellenl\u00e4nge von 13,5 nm.<\/p>\n

<\/center>\"\u201eAu\u00dferhalb<\/p>\n

Der Vorteil des Lace-Systems besteht darin, dass Atome keine Beugungsgrenze haben, w\u00e4hrend die photonische Lithografie, einschlie\u00dflich der EUV-Systeme von ASML, durch die Wellenl\u00e4nge des verwendeten Lichts eingeschr\u00e4nkt ist. Da Chip-Hersteller die Gr\u00f6\u00dfe der Elemente verringern, verlassen sie sich auf immer komplexere Methoden der mehrschichtigen Musterbildung, um diese Einschr\u00e4nkung zu umgehen, doch Lace verwendet einen anderen Ansatz, indem es Photonen durch neutrale Heliumatome und einen Strahl ersetzt, dessen Breite ungef\u00e4hr der Breite eines Wasserstoffatoms entspricht.<\/p>\n

Lace beschreibt seine Systeme als BEUV oder Beyond-EUV (\u201ejenseits von EUV\u201c). Die Gesch\u00e4ftsf\u00fchrerin und Mitgr\u00fcnderin von Lace, Bodil Holst, erkl\u00e4rte, dass die von dem Unternehmen entwickelte Technologie es Chip-Herstellern erm\u00f6glichen wird, Wafer mit \u201eletztendlich atomarer Aufl\u00f6sung\u201c zu drucken. Der wissenschaftliche Leiter f\u00fcr Lithografie bei Imec, John Petersen, ist der Ansicht, dass dieser Ansatz Transistoren und andere Elemente um eine Ordnung verringern kann, bis zu einem \u201efast unvorstellbaren\u201c Ma\u00df.<\/p>\n

Lace hat sich einer wachsenden Anzahl von Startups angeschlossen, die Alternativen zur fortschrittlichen Lithografie von ASML entwickeln. Amerikanische Unternehmen wie Substrate und xLight arbeiten an Lichtquellen auf Basis von Teilchenbeschleunigern f\u00fcr EUV- oder R\u00f6ntgenlithografie, wobei xLight 150 Millionen USD staatliche F\u00f6rdermittel aus den USA erhalten hat. Canon lieferte sein erstes Ger\u00e4t f\u00fcr die Nanoimprint-Lithografie an das Texas Institute of Electronics bereits im September 2024, und das chinesische Unternehmen Prinano hat k\u00fcrzlich sein eigenes System f\u00fcr Nanoimprint-Lithografie auf dem heimischen Markt vorgestellt.<\/p>\n

Der Ansatz von Lace unterscheidet sich von all diesen Unternehmen. W\u00e4hrend Substrate und xLight weiterhin Photonen verwenden, lehnt Lace elektromagnetische Strahlung vollst\u00e4ndig ab. Obwohl Lace bereits Prototypen des Systems entwickelt hat, ist der Abstand zwischen Labor und Produktion wie immer enorm. Derzeit plant das Unternehmen, bis 2029 eine Testanlage in einem Pilotwerk zu errichten, w\u00e4hrend der Zeitrahmen f\u00fcr den \u00dcbergang zur Serienproduktion noch nicht bekannt gegeben wurde.<\/p>\n

Es ist erw\u00e4hnenswert, dass ASML Jahrzehnte und Milliarden Dollar investiert hat, um die EUV-Lithografie von einem Forschungskonzept in ein kommerzielles Produkt zu verwandeln. Bei Lace arbeiten derzeit \u00fcber 50 Personen in Norwegen, Spanien, Gro\u00dfbritannien und den Niederlanden, und die ersten Ergebnisse ihrer Forschungen wurden erstmals auf der Konferenz SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026 vorgestellt.<\/p>\n

Quelle:<\/strong><\/p>\n