{"id":166072,"date":"2026-03-24T23:13:48","date_gmt":"2026-03-24T21:13:51","guid":{"rendered":"https:\/\/prohoster.info\/blog\/novosti-interneta\/za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm"},"modified":"2026-03-27T13:27:33","modified_gmt":"2026-03-27T11:27:33","slug":"za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/prohoster.info\/de\/blog\/novosti-interneta\/za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm","title":{"rendered":"\u201eJenseits von EUV\u201c: Lace Lithography bereitet die Lithografie mit Helium-Atomen mit einer Aufl\u00f6sung von 0,1 nm vor","gt_translate_keys":[{"key":"rendered","format":"text"}]},"content":{"rendered":"

Das norwegische Startup Lace Lithography hat mit Unterst\u00fctzung von Microsoft 40 Millionen Dollar in einer ersten Finanzierungsrunde zur Entwicklung eines lithografischen Scanners eingeworben, der bei der Bearbeitung von Siliziumwafern einen Heliumstrahl verwendet. Das Unternehmen behauptet, dass seine Technologie es erm\u00f6glichen wird, Chip-Elemente mit einem zehnmal kleineren Ma\u00dfstab als bestehende Lithographiesysteme zu erstellen, mit einer Strahlbreite von nur 0,1 nm \u2013 w\u00e4hrend die EUV-Scanner von ASML Strahlung mit einer Wellenl\u00e4nge von 13,5 nm nutzen.<\/p>\n

<\/center>\"\u201eJenseits<\/p>\n

Der Vorteil des Lace-Systems liegt darin, dass Atome keine Beugungsgrenze haben, w\u00e4hrend die photonische Lithografie, einschlie\u00dflich der EUV-Systeme von ASML, durch die Wellenl\u00e4nge des verwendeten Lichts beschr\u00e4nkt ist. W\u00e4hrend Halbleiterhersteller die Gr\u00f6\u00dfen der Elemente reduzieren, greifen sie auf zunehmend komplexe Methoden der mehrlagigen Mustererstellung zur\u00fcck, um diese Beschr\u00e4nkung zu umgehen, aber Lace verfolgt einen anderen Ansatz, indem es Photonen durch neutrale Heliumatome ersetzt und einen Strahl verwendet, dessen Breite ungef\u00e4hr der Breite eines Wasserstoffatoms entspricht.<\/p>\n

Lace beschreibt ihre Systeme als BEUV, oder Beyond-EUV (\u201ejenseits von EUV\u201c). Die Gesch\u00e4ftsf\u00fchrerin und Mitbegr\u00fcnderin von Lace, Bodil Holst, erkl\u00e4rte, dass die von ihrem Unternehmen entwickelte Technologie es Chipproduzenten erm\u00f6glichen wird, Wafer mit \u201eletztendlich atomarem Detail\u201c zu bedrucken. Der wissenschaftliche Direktor f\u00fcr Lithografie bei Imec, John Petersen, ist der Meinung, dass dieser Ansatz die Transistoren und andere Elemente um einen Faktor verringern kann, bis zu einem \u201efast unvorstellbaren\u201c Ausma\u00df.<\/p>\n

Lace hat sich einer wachsenden Zahl von Startups angeschlossen, die Alternativen zur fortschrittlichen Lithografie von ASML entwickeln. Amerikanische Unternehmen wie Substrate und xLight arbeiten an Lichtquellen auf Basis von Teilchenbeschleunigern f\u00fcr EUV- oder R\u00f6ntgenlithografie, wobei xLight 150 Millionen US-Dollar staatliche Finanzierung erhalten hat. Canon lieferte sein erstes Ger\u00e4t f\u00fcr die Nanoimprint-Lithografie im September 2024 an das Texas Institute of Electronics, und das chinesische Unternehmen Prinano hat k\u00fcrzlich sein eigenes System f\u00fcr die Nanoimprint-Lithografie auf dem heimischen Markt vorgestellt.<\/p>\n

Die Herangehensweise von Lace unterscheidet sich von all diesen Unternehmen. W\u00e4hrend Substrate und xLight weiterhin Photonen nutzen, verzichtet Lace vollst\u00e4ndig auf elektromagnetische Strahlung. Obwohl Lace bereits Prototypen des Systems entwickelt hat, bleibt die Kluft zwischen Labor und Produktion, wie immer, gro\u00df. Das Unternehmen plant derzeit, bis 2029 eine Testanlage in einem Pilotwerk zu errichten, und die Zeitrahmen f\u00fcr den \u00dcbergang zur Serienproduktion sind noch nicht bekannt.<\/p>\n

Es ist zu beachten, dass ASML jahrzehntelang und Milliarden von Dollar investiert hat, um die EUV-Lithographie von einem Forschungskonzept zu einem kommerziellen Produkt zu entwickeln. Bei Lace sind derzeit \u00fcber 50 Mitarbeiter in Norwegen, Spanien, Gro\u00dfbritannien und den Niederlanden besch\u00e4ftigt, und die ersten Ergebnisse ihrer Forschung wurden erstmals auf der Konferenz SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026 pr\u00e4sentiert.<\/p>\n

Quelle:<\/strong><\/p>\n