Reen en majo, ASML, gvidanto en la litografia skanilo-segmento, parolis pri la perspektivoj por la apero antaŭ la komenco de la venonta jardeko de sistemoj kiuj permesas labori kun ultra-alta nombra aperturo valoro de 0,75 (Hyper-NA EUV). Reprezentantoj de Imec diras, ke litografio daŭre uzos laserojn kaj silicion en la venonta jardeko. Bildfonto: ASML
fonto: 3dnews.ru
