En mayo, ASML, líder en el segmento de escáneres de litografía, habló sobre las perspectivas de que a principios de la próxima década aparezcan sistemas que permitan trabajar con un valor de apertura numérica ultra alto de 0,75 (Hyper-NA EUV). Los representantes de Imec afirman que en la próxima década la litografía no se alejará del uso de láseres y silicio. Fuente de la imagen: ASML
Fuente: 3dnews.ru
