{"id":166072,"date":"2026-03-24T23:13:48","date_gmt":"2026-03-24T21:13:51","guid":{"rendered":"https:\/\/prohoster.info\/blog\/novosti-interneta\/za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm"},"modified":"2026-03-27T13:27:33","modified_gmt":"2026-03-27T11:27:33","slug":"za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/prohoster.info\/es\/blog\/news\/za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm","title":{"rendered":"\u00abM\u00e1s all\u00e1 de EUV\u00bb: Lace Lithography prepara la litograf\u00eda de \u00e1tomos de helio con una resoluci\u00f3n de 0,1 nm","gt_translate_keys":[{"key":"rendered","format":"text"}]},"content":{"rendered":"

La startup noruega Lace Lithography, con el apoyo de Microsoft, ha recaudado $40 millones en una ronda de financiaci\u00f3n inicial para desarrollar un esc\u00e1ner de litograf\u00eda que utiliza un haz de \u00e1tomos de helio en el procesamiento de obleas de silicio. La empresa afirma que su tecnolog\u00eda permitir\u00e1 crear elementos de chips diez veces m\u00e1s peque\u00f1os que los de los sistemas de litograf\u00eda actuales, con un ancho de haz de solo 0,1 nm, mientras que los esc\u00e1neres EUV de ASML utilizan radiaci\u00f3n con una longitud de onda de 13,5 nm.<\/p>\n

<\/center>\"\u00abM\u00e1s<\/p>\n

La ventaja del sistema Lace es que los \u00e1tomos no tienen un l\u00edmite de difracci\u00f3n, mientras que la litograf\u00eda fot\u00f3nica, incluidas las soluciones EUV de ASML, est\u00e1 limitada por la longitud de onda de la luz utilizada. A medida que los fabricantes de semiconductores reducen las dimensiones de los elementos, recurren a m\u00e9todos cada vez m\u00e1s complejos de formaci\u00f3n de patrones en m\u00faltiples capas para sortear esta limitaci\u00f3n, pero Lace utiliza un enfoque diferente, sustituyendo fotones por \u00e1tomos neutros de helio y un haz cuya anchura es aproximadamente igual a la de un solo \u00e1tomo de hidr\u00f3geno.<\/p>\n

Lace describe sus sistemas como BEUV, o Beyond-EUV (\u00abm\u00e1s all\u00e1 de EUV\u00bb). La CEO y cofundadora de Lace, Bodil Holst, afirm\u00f3 que la tecnolog\u00eda desarrollada por la empresa permitir\u00e1 a los fabricantes de semiconductores imprimir obleas con \"resoluci\u00f3n at\u00f3mica en \u00faltima instancia\". El director cient\u00edfico de litograf\u00eda de Imec, John Petersen, considera que este enfoque podr\u00eda reducir los transistores y otros elementos en un orden de magnitud, a un nivel \"casi inconcebible\".<\/p>\n

Lace se ha unido a un n\u00famero creciente de startups que desarrollan alternativas a la litograf\u00eda avanzada de ASML. Las empresas estadounidenses Substrate y xLight est\u00e1n trabajando en fuentes de luz basadas en aceleradores de part\u00edculas para litograf\u00eda EUV o de rayos X, con xLight recibiendo $150 millones en financiaci\u00f3n gubernamental de EE. UU. Canon envi\u00f3 su primera herramienta para litograf\u00eda de nanoimpronta al Instituto de Electr\u00f3nica de Texas en septiembre de 2024, mientras que la empresa china Prinano ha presentado recientemente su propio sistema de litograf\u00eda de nanoimpronta en el mercado interno.<\/p>\n

Sin embargo, el enfoque de Lace es diferente al de todas estas empresas. Mientras que Substrate y xLight a\u00fan utilizan fotones, Lace se aleja completamente de la radiaci\u00f3n electromagn\u00e9tica. Aunque Lace ya ha creado prototipos del sistema, la brecha entre el laboratorio y la producci\u00f3n sigue siendo enorme. Actualmente, la compa\u00f1\u00eda planea desplegar una instalaci\u00f3n de prueba en un sitio piloto para 2029, aunque no se han dado plazos para la transici\u00f3n a la producci\u00f3n en serie.<\/p>\n

Cabe mencionar que ASML ha pasado d\u00e9cadas y miles de millones de d\u00f3lares transformando la litograf\u00eda EUV de un concepto de investigaci\u00f3n a un producto comercial. Actualmente, en Lace trabajan m\u00e1s de 50 personas en Noruega, Espa\u00f1a, Reino Unido y los Pa\u00edses Bajos, y la empresa present\u00f3 por primera vez los resultados de sus investigaciones en la conferencia SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026.<\/p>\n

Fuente:<\/strong><\/p>\n