{"id":166072,"date":"2026-03-24T23:13:48","date_gmt":"2026-03-24T21:13:51","guid":{"rendered":"https:\/\/prohoster.info\/blog\/novosti-interneta\/za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm"},"modified":"2026-03-27T13:27:33","modified_gmt":"2026-03-27T11:27:33","slug":"za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/prohoster.info\/et\/blog\/novosti-interneta\/za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm","title":{"rendered":"\u00abV\u00e4ljaspool EUV\u00bb: Lace Lithography valmistab 0,1 nm resolutsiooniga heeliumi aatomite litograafiat","gt_translate_keys":[{"key":"rendered","format":"text"}]},"content":{"rendered":"

Norra idufirma Lace Lithography, millel on Microsofti toetus, on saanud 40 miljonit dollarit esimeses rahastamisringis litograafilise skanneri arendamiseks, mis kasutab heeliumi aatomite kimpude t\u00f6\u00f6tlemisel silikoonplaate. Ettev\u00f5te v\u00e4idab, et nende tehnoloogia v\u00f5imaldab luua kiibielemente 10 korda v\u00e4iksemas m\u00f5\u00f5dus kui olemasolevad litograafias\u00fcsteemid, koos kimbu laiusest vaid 0,1 nm \u2014 EUV-skannerid ASML kasutavad 13,5 nm lainepikkusega kiirgust.<\/p>\n

<\/center>\"\u00abV\u00e4ljaspool<\/p>\n

Lace s\u00fcsteemi eelis on see, et aatomid ei allu difraktsiooni piirangule, samas kui fotonlitograafia, sealhulgas ASML-i EUV s\u00fcsteemid, on piiratud kasutatava valguse lainepikkusega. Kuna kiibivalmistajad v\u00e4hendavad elementide suurusi, toetuvad nad \u00fcha keerukamate kihistamismetoodikate kasutamisele, et selle piirangu \u00fcmber k\u00e4ia, kuid Lace kasutab teistsugust l\u00e4henemist, asendades fotonid neutraalsete heeliumi aatomitega ning kimbud, mille laius on ligikaudu v\u00f5rreldav \u00fche vesinikaatomi laiusega.<\/p>\n

Lace kirjeldab oma s\u00fcsteeme kui BEUV ehk Beyond-EUV (\u201e\u00fcle EUV\u201d). Lace\u2019i tegevjuht ja kaasasutaja Bodil Holst \u00fctles, et ettev\u00f5tte arendatud tehnoloogia v\u00f5imaldab kiipide tootjatel tr\u00fckkida plaate \u201el\u00f5puks aatomi resolutsiooniga\u201d. Imeci litograafia teadusdirektor John Petersen usub, et see l\u00e4henemine v\u00f5ib v\u00e4hendada transistorite ja teiste elementide m\u00f5\u00f5tmeid \u00fche j\u00e4rjestikku, peaaegu \u201ekujutlematu\u201d m\u00e4\u00e4rani.<\/p>\n

Lace liitus kasvava hulgaga idufirmadest, kes arendavad ASMLi tipplitograafile alternatiive. Ameerika ettev\u00f5tted Substrate ja xLight arendavad EUV- v\u00f5i r\u00f6ntgenlitograafia jaoks kiirendajatel p\u00f5hinevaid valgusallikaid, kusjuures xLight on saanud 150 miljonit dollarit USA valitsuse rahastust. Canon tarnis oma esimese nanoprintimise litograafia seadme Texas Electronics Institute'isse juba 2024. aasta septembris, samas kui Hiina ettev\u00f5te Prinano tutvustas hiljuti oma nanoprintimise litograafias\u00fcsteemi koduturul.<\/p>\n

Kuid Lace'i l\u00e4henemine erineb k\u00f5igist nende ettev\u00f5tetest. Samal ajal kui Substrate ja xLight kasutavad endiselt footone, loobub Lace t\u00e4ielikult elektromagnetilisest kiirgusest. Kuigi Lace on juba loonud s\u00fcsteemi protot\u00fc\u00fcbid, on labori ja tootmise vahe alati tohutu. Praegu plaanib ettev\u00f5te 2029. aastaks pilotseeri proovikeskuse k\u00e4ivitamist, kuid seerianumbrite tootmise ajakava ei ole veel avalikustatud.<\/p>\n

On oluline m\u00e4rkida, et ASML on kulutanud aastak\u00fcmneid ja miljardeid dollareid, et muuta EUV-litograafia uurimisidee kommertstooteks. Lace'is t\u00f6\u00f6tab praegu \u00fcle 50 inimese Norra, Hispaania, \u00dchendkuningriigi ja Madalmaade kontorites, ning ettev\u00f5tte esimesed teadusuuringute tulemused esitleti esmakordselt konverentsil SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026.<\/p>\n

Allikas:<\/strong><\/p>\n