{"id":166072,"date":"2026-03-24T23:13:48","date_gmt":"2026-03-24T21:13:51","guid":{"rendered":"https:\/\/prohoster.info\/blog\/novosti-interneta\/za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm"},"modified":"2026-03-27T13:27:33","modified_gmt":"2026-03-27T11:27:33","slug":"za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/prohoster.info\/et\/blog\/news\/za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm","title":{"rendered":"\u00abEUV-st v\u00e4ljaspool\u00bb: Lace Lithography valmistab ette heeliumaatomite litograafiat 0,1 nm lahutusv\u00f5imega","gt_translate_keys":[{"key":"rendered","format":"text"}]},"content":{"rendered":"

Norra startuppi Lace Lithography, kuus Microsofti toetusel, t\u00f5mbas esimeses rahastamisringis 40 miljonit dollarit, et arendada litograafilist skannerit, mis kasutab heeliumaatomite kimpusid silikoonplaatide t\u00f6\u00f6tlemisel. Ettev\u00f5te v\u00e4idab, et nende tehnoloogia v\u00f5imaldab luua kiibi elemente, mis on k\u00fcmme korda v\u00e4iksemad kui olemasolevad litograafias\u00fcsteemid, kimpude laius on vaid 0,1 nm - EUV-skannerid ASML kasutavad kiirgust, mille lainepikkus on 13,5 nm.<\/p>\n

<\/center>\"\u00abEUV-st<\/p>\n

Lace s\u00fcsteemi eelis on see, et aatomitel ei ole difraktsioonipiirangut, samas kui fotonite litograafia, sealhulgas ASMLi EUV-s\u00fcsteemid, on piiratud kasutatava valguse lainepikkusega. Kui mikroskeemide tootjad v\u00e4hendavad elementide suurust, tuginevad nad \u00fcha keerukamatele kihtide vormimise meetoditele, et seda piirangut \u00fcletada, kuid Lace kasutab teistsugust l\u00e4henemist, asendades fotonid heeliumaatomitega ja kimp, mille laius on ligikaudu \u00fchtlane vesinikaatomiga.<\/p>\n

Lace kirjeldab oma s\u00fcsteeme kui BEUV, ehk Beyond-EUV (\u00abEUV-st kaugemale\u00bb). Lace'i tegevjuht ja kaasasutaja Bodil Holst on \u00f6elnud, et ettev\u00f5tte arendatud tehnoloogia v\u00f5imaldab mikroskeemide tootjatel tr\u00fckkida plaate \u201el\u00f5ppkokkuv\u00f5ttes aatomilise eraldusv\u00f5imega\u201d. Imec'i litograafia teadusdirektor John Petersen usub, et see l\u00e4henemine v\u00f5ib v\u00e4hendada transistore ja teisi elemente korrutiseni, peaaegu \u201ek\u00e4tkeda kujutlusv\u00f5imet\u201d.<\/p>\n

Lace liitus kasvava arvu startuppidega, kes arendavad alternatiive ASMLi t\u00e4iendavale litograafiale. Ameerika ettev\u00f5tted Substrate ja xLight arendavad EUV- v\u00f5i r\u00f6ntgenlitograafia jaoks kiirgusallikaid, mis p\u00f5hinevad osakeste kiirenditel, samal ajal kui xLight sai 150 miljonit dollarit USA valitsuse rahastamist. Canon tarnis oma esimese nanotr\u00fckitehnoloogia t\u00f6\u00f6riista Texase elektroonika instituudile juba septembris 2024 ning Hiina ettev\u00f5te Prinano tutvustas hiljuti oma nanotr\u00fckitehnoloogia s\u00fcsteemi koduturul.<\/p>\n

Kuid Lace'i l\u00e4henemine erineb k\u00f5igist neist ettev\u00f5tetest. Kuigi Substrate ja xLight kasutavad endiselt footone, loobub Lace t\u00e4ielikult elektromagnetilisest kiirgusest. Kuigi Lace on juba v\u00e4lja t\u00f6\u00f6tanud s\u00fcsteemi protot\u00fc\u00fcpe, on labori ja tootmise vahe nagu alati tohutu. Praegu plaanib ettev\u00f5te avada katsejaama piloottehasesse 2029. aastaks, samas kui seeriatootmise algamise t\u00e4pset t\u00e4htaega veel ei ole.<\/p>\n

On oluline m\u00e4rkida, et ASML on kulutanud aastak\u00fcmneid ja miljardeid dollareid EUV-lithograafia uurimisprojekti kommertsproduktiks muutmiseks. Lace'is t\u00f6\u00f6tab praegu enam kui 50 inimest Norras, Hispaanias, Suurbritannias ja Hollandis ning ettev\u00f5te esitles oma uurimist\u00f6\u00f6 esimesi tulemusi esmakordselt konverentsil SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026.<\/p>\n

Allikas:<\/strong><\/p>\n