{"id":166072,"date":"2026-03-24T23:13:48","date_gmt":"2026-03-24T21:13:51","guid":{"rendered":"https:\/\/prohoster.info\/blog\/novosti-interneta\/za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm"},"modified":"2026-03-27T13:27:33","modified_gmt":"2026-03-27T11:27:33","slug":"za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/prohoster.info\/fr\/blog\/news\/za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm","title":{"rendered":"\u00ab Au-del\u00e0 de l'EUV \u00bb : Lace Lithography pr\u00e9pare la lithographie \u00e0 l'atome d'h\u00e9lium avec une r\u00e9solution de 0,1 nm.","gt_translate_keys":[{"key":"rendered","format":"text"}]},"content":{"rendered":"

La startup norv\u00e9gienne Lace Lithography, soutenue par Microsoft, a lev\u00e9 40 millions de dollars lors d'un premier tour de financement pour d\u00e9velopper un scanner lithographique utilisant un faisceau d'atomes d'h\u00e9lium pour traiter des plaquettes de silicium. L'entreprise affirme que sa technologie permettra de cr\u00e9er des \u00e9l\u00e9ments de puces dix fois plus petits que les syst\u00e8mes de lithographie existants, avec une largeur de faisceau de seulement 0,1 nm \u2014 les scanners EUV d'ASML utilisent un rayonnement avec une longueur d'onde de 13,5 nm.<\/p>\n

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L'avantage du syst\u00e8me Lace est que les atomes n'ont pas de limite de diffraction, tandis que la lithographie photonique, y compris les syst\u00e8mes EUV d'ASML, est limit\u00e9e par la longueur d'onde de la lumi\u00e8re utilis\u00e9e. \u00c0 mesure que les fabricants de circuits int\u00e9gr\u00e9s r\u00e9duisent la taille des \u00e9l\u00e9ments, ils s'appuient sur des m\u00e9thodes de formation de motifs en couches de plus en plus complexes pour contourner cette limitation, mais Lace adopte une approche diff\u00e9rente en rempla\u00e7ant les photons par des atomes d'h\u00e9lium neutres et un faisceau dont la largeur est \u00e0 peu pr\u00e8s celle d'un atome d'hydrog\u00e8ne.<\/p>\n

Lace d\u00e9crit ses syst\u00e8mes comme BEUV, ou Beyond-EUV (\u00ab au-del\u00e0 de l'EUV \u00bb). La directrice g\u00e9n\u00e9rale et cofondatrice de Lace, Bodil Holst, a d\u00e9clar\u00e9 que la technologie d\u00e9velopp\u00e9e par l'entreprise permettra aux fabricants de circuits int\u00e9gr\u00e9s d'imprimer des plaquettes avec \u00ab finalement une r\u00e9solution atomique \u00bb. Le directeur scientifique de la lithographie chez Imec, John Petersen, estime que cette approche pourrait r\u00e9duire les transistors et d'autres \u00e9l\u00e9ments d'un ordre de grandeur, jusqu'\u00e0 un niveau \u00ab presque inimaginable \u00bb.<\/p>\n

Lace a rejoint un nombre croissant de startups d\u00e9veloppant des alternatives \u00e0 la lithographie avanc\u00e9e d'ASML. Les entreprises am\u00e9ricaines Substrate et xLight con\u00e7oivent des sources de lumi\u00e8re bas\u00e9es sur des acc\u00e9l\u00e9rateurs de particules pour la lithographie EUV ou \u00e0 rayons X, xLight ayant obtenu 150 millions de dollars de financement public aux \u00c9tats-Unis. Canon a livr\u00e9 son premier outil de lithographie par nano-impression \u00e0 l'institut \u00e9lectronique du Texas en septembre 2024, et l'entreprise chinoise Prinano a r\u00e9cemment pr\u00e9sent\u00e9 son propre syst\u00e8me de lithographie par nano-impression sur le march\u00e9 int\u00e9rieur.<\/p>\n

Cependant, l'approche de Lace se distingue de toutes ces entreprises. Alors que Substrate et xLight utilisent encore des photons, Lace renonce compl\u00e8tement aux \u00e9missions \u00e9lectromagn\u00e9tiques. Bien que Lace ait d\u00e9j\u00e0 cr\u00e9\u00e9 des prototypes de son syst\u00e8me, le foss\u00e9 entre le laboratoire et la production reste colossal. Actuellement, l'entreprise pr\u00e9voit de d\u00e9ployer une plateforme d'essai dans une installation pilote d'ici 2029, tandis que les d\u00e9lais pour le passage \u00e0 la production en s\u00e9rie ne sont pas encore annonc\u00e9s.<\/p>\n

Il convient de noter qu'ASML a d\u00e9pens\u00e9 des d\u00e9cennies et des milliards de dollars pour transformer la lithographie EUV d'un concept de recherche en produit commercial. Lace compte actuellement plus de 50 employ\u00e9s en Norv\u00e8ge, en Espagne, au Royaume-Uni et aux Pays-Bas, et les premiers r\u00e9sultats de ses recherches ont \u00e9t\u00e9 pr\u00e9sent\u00e9s pour la premi\u00e8re fois lors de la conf\u00e9rence SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026.<\/p>\n

Source :<\/strong><\/p>\n