Ní insíonn ach scéal fairy é féin go tapa. Tháinig sé ar an eolas faoin gcuideachta Meiriceánach Enevate, a bhí ag forbairt cadhnraí litiam-ian le anóidí sileacain. Gheall an teicneolaíocht nua dlús stórála fuinnimh méadaithe agus muirearú tapa. Ó shin i leith, tá an teicneolaíocht ag feabhsú i gcónaí agus tá an cladach le feiceáil cheana féin. Níl níos mó ná 5 bliana fágtha roimh thabhairt isteach praiticiúil cadhnraí nua.
Mar Chuir láithreán gréasáin IEEE Spectrum le nasc chuig Enevate, monaróirí móra i dtionscal na ngluaisteán, go háirithe Renault, Nissan agus Mitsubishi, chomh maith leis na monaróirí ceallraí LG Chem agus Samsung, suim i dteicneolaíocht ceallraí na cuideachta. Is infheisteoirí iad go léir in Enevate. Thosaigh forbairt na teicneolaíochta thart ar 10 mbliana ó shin. Má dhealraíonn sé i gcarranna, mar a gealladh, i 2024-2025, ansin beidh an cosán ón tionscadal go dtí a chur i bhfeidhm 15 bliana.
Dála an scéil, cuimsíonn bord comhairleach Enevate Gradam Ceimice 2019: John Goodenough, a fuair an gradam mór le rá as a chuid éachtaí i bhforbairt cadhnraí litiam-ian. Bhí baint aige le forbairt na teicneolaíochta ceallraí Enevate i bhfad sula bhfuair sé an dámhachtain seo, mar sin ag Enevate níl sé ag imirt ról “ginearálta bainise”, ach ag dul i mbun gnó. Agus, le bheith macánta, tar éis an duais a bhronnadh, tugann sé i bhfad níos mó meáchain don chuideachta i súile na n-infheisteoirí.
Is é an smaoineamh atá taobh thiar de Enevate ná anóid a chruthú go príomha ó . Is féidir le sileacain iain a stóráil chun dlúis stórála fuinnimh a thaifeadadh agus é sin a dhéanamh i bhfad níos tapúla ná anóidí déanta as ábhair eile (cé is moite den graphene níos costasaí). Gearrann an ceallraí litiam-ian Enevate suas le 75% dá acmhainn i 5 nóiméad. Tá cúlchiste fuinnimh 30% níos mó aige freisin ná cadhnraí litiam-ian nua-aimseartha. Dearbhaíonn an chuideachta an paraiméadar seo ag 350 Wh/kg. Go teoiriciúil, d'fhéadfadh feithicil leictreach faoi thiomáint ag cadhnraí Enevate taisteal 400 km tar éis an ceallraí a mhuirearú ar feadh 5 nóiméad.
Tá rún na ceallraí Enevate sa struchtúr anóid speisialta. Tá tiús 10 go 60 miocrón ag an gciseal sileacain san anóid agus tá sé neamhghnách scagach. Méadaíonn sé seo soghluaisteacht ian san anóid agus dlús stórála fuinnimh. Chomh maith leis sin, stopann an struchtúr scagach na próisis millteach i sileacain a tharlaíonn le linn cadhnraí a mhuirearú agus a urscaoileadh.
Ina theannta sin, tá ciseal sileacain an anóid cosanta ar an dá thaobh ag sraith de graifít. Cuireann graifít cosc ar theagmháil millteach sileacain leis an leictrilít. Ba é an príomh-mhíbhuntáiste a bhaineann le cadhnraí Enevate ná an ciseal anóid sileacain a scriosadh go tapa. Mar sin, tar éis an chéad timthriall muirir agus urscaoilte, chaill an ceallraí 7% dá acmhainn. Tá struchtúr scagach an chiseal anóid sileacain deartha chun an míbhuntáiste seo a shárú, ach ní shonraítear cé mhéad atá feabhsaithe ag an gcuideachta ar líon na dtimthriallta muirir agus urscaoilte. Tá súil againn go dtógfaidh an chuideachta na ceithre nó cúig bliana atá geallta chun an teicneolaíocht a thabhairt chuig táirgeadh tráchtála.
Foinse: 3dnews.ru