Xa en maio, ASML, líder no segmento de escáneres litográficos, falou sobre as perspectivas de aparición a principios da próxima década de sistemas que permitan traballar cun valor de apertura numérica ultraelevada de 0,75 (Hyper-NA EUV). Os representantes de Imec afirman que na próxima década a litografía non se afastará do uso de láseres e silicio. Fonte da imaxe: ASML
Fonte: 3dnews.ru
