Segundo a dirección de Intel, cando os primeiros produtos de 7 nm do xigante do microprocesador debuten en dous anos, con produtos de 5 nm de TSMC taiwanés. Si, pero non é así. Fontes taiwanesas que citan a representantes anónimos da industria insular que en 2021 Intel terá que facer fronte á tecnoloxía de proceso de 5 nm mellorada de TSMC. Esta será a tecnoloxía de proceso N5+ ou 5 nm Plus: a segunda xeración da tecnoloxía de proceso de 5 nm do maior fabricante de chips por contrato do mundo.
Como sabes, como recorda regularmente a dirección de TSMC, a compañía lanzou unha produción arriscada con estándares de 5 nm no primeiro trimestre deste ano. Produción en masa con estándares de 5 nm (5N). no primeiro ou segundo trimestre de 2020. Hai un matiz no momento exacto do lanzamento da produción en masa con estándares de 5 nm por TSMC. Para traballar con estes estándares tecnolóxicos, a empresa está a construír unha nova planta: a planta Fab 18. En canto estea listo Fab 18 , podemos falar do inicio da produción con estándares de 5 nm. Este proceso poderá estenderse desde finais de 2019 ata o segundo trimestre de 2020 inclusive. Pero aínda que aceptemos prazos, TSMC lanzará a produción comercial con estándares de 5 nm a máis tardar entre abril e xuño de 2020.
Do anterior despréndese que a compañía comezará a produción arriscada con estándares N5+ ou unha tecnoloxía de proceso mellorada de 5 nm no primeiro trimestre de 2020. A fonte di isto directamente. Un ano despois, a compañía estará lista para comezar a produción en masa de chips utilizando a tecnoloxía de proceso N5+. É esta tecnoloxía de proceso coa que Intel terá que comparar os seus logros de fabricación cando presente os seus primeiros procesadores gráficos discretos de 2021 nm en 7. AMD e NVIDIA, como clientes de longa data de TSMC, xa teñen todas as posibilidades de lanzar as dúas GPU de 5 nm e teñen plans de lanzar solucións gráficas cunha tecnoloxía de proceso mellorada de 5 nm.
Ata a data, non hai nada que dicir sobre a tecnoloxía de proceso TSMC N5+, agás unha cousa. Este proceso utilizará parcialmente escáneres EUV. A profundidade de uso dos escáneres de 13,5 nm determinará canto mellor é o proceso N5+ que o proceso N5.
Fonte: 3dnews.ru