Norveški startup Lace Lithography, uz podršku Microsofta, prikupio je 40 milijuna dolara u prvom krugu financiranja za razvoj litografskog skenera koji koristi snop helijevih atoma za obradu silicijskih ploča. Tvrtka tvrdi da će joj tehnologija omogućiti stvaranje komponenti čipova deset puta manjeg veličine od postojećih litografskih sustava, s širinom snopa od samo 0,1 nm — EUV skeneri ASML koriste zračenje s valnom dužinom od 13,5 nm.
Prednost Lace sustava leži u tome što atomi nemaju difrakcijsko ograničenje, dok je fotonska litografija, uključujući EUV sustave ASML, ograničena valnom dužinom korištene svjetlosti. Kako proizvođači mikročipova smanjuju veličine elemenata, oslanjaju se na sve složenije metode višeslojnog oblikovanja predložaka kako bi zaobišli ovo ograničenje, dok Lace koristi drugačiji pristup, zamjenjujući fotone neutralnim helijevim atomima i snopom čija je širinapristupotrebnaotprilike jednaka širini jednog atoma vodika.
Lace opisuje svoje sustave kao BEUV, ili Beyond-EUV („iza EUV-a“). Izvršna direktorica i suosnivačica Lace, Bodil Holst, izjavila je da će tehnologija koju je razvila tvrtka omogućiti proizvođačima mikročipova ispisivanje ploča s „na kraju atomske razlučivosti“. Znanstveni direktor za litografiju Imec, John Petersen, smatra da ovaj pristup može smanjiti transistore i druge elemente za red veličine, do „gotovo nepojmljivog“ stupnja.
Lace se pridružila rastućem broju startupova koji razvijaju alternative naprednoj litografiji ASML-a. Američke tvrtke Substrate i xLight razvijaju izvore svjetlosti temeljene na akceleratorima čestica za EUV- ili rendgensku litografiju, pri čemu je xLight dobila 150 milijuna dolara državnog financiranja iz SAD-a. Canon je isporučio svoj prvi alat za nanoinprint litografiju Texas Institute of Electronics već u rujnu 2024. godine, a kineska tvrtka Prinano nedavno je predstavila vlastiti sustav nanoinprint litografije na domaćem tržištu.
Međutim, pristup Lace-a se razlikuje od svih ovih tvrtki. Dok Substrate i xLight i dalje koriste fotone, Lace potpuno odbacuje elektromagnetsko zračenje. Iako je Lace već stvorila prototipove sustava, razlika između laboratorija i proizvodnje, kao i uvijek, je ogromna. Trenutno kompanija planira ugraditi probnu platformu u pilot postrojenje do 2029. godine, a rokovi za prelazak na serijsku proizvodnju još uvijek nisu objavljeni.
Vrijedi napomenuti da je ASML potrošila desetljeća i milijarde dolara kako bi transformirala EUV litografiju iz istraživačkog koncepta u komercijalni proizvod. U Lace-u trenutno radi više od 50 ljudi u Norveškoj, Španjolskoj, Velikoj Britaniji i Nizozemskoj, a prve rezultate svojih istraživanja kompanija je prvi put predstavila na konferenciji SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026.
Izvor:
Izvor: 3dnews.ru
