{"id":166072,"date":"2026-03-24T23:13:48","date_gmt":"2026-03-24T21:13:51","guid":{"rendered":"https:\/\/prohoster.info\/blog\/novosti-interneta\/za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm"},"modified":"2026-03-27T13:27:33","modified_gmt":"2026-03-27T11:27:33","slug":"za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/prohoster.info\/hr\/blog\/news\/za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm","title":{"rendered":"\u201eIzvan EUV-a\u201d: Lace Lithography priprema litografiju na atomima helija s razlu\u010divo\u0161\u0107u 0,1 nm","gt_translate_keys":[{"key":"rendered","format":"text"}]},"content":{"rendered":"

Norve\u0161ki startup Lace Lithography, uz podr\u0161ku Microsofta, prikupio je 40 milijuna dolara u prvom krugu financiranja za razvoj litografskog skenera koji koristi snop helijevih atoma za obradu silicijskih plo\u010da. Tvrtka tvrdi da \u0107e joj tehnologija omogu\u0107iti stvaranje komponenti \u010dipova deset puta manjeg veli\u010dine od postoje\u0107ih litografskih sustava, s \u0161irinom snopa od samo 0,1 nm \u2014 EUV skeneri ASML koriste zra\u010denje s valnom du\u017einom od 13,5 nm.<\/p>\n

<\/center>\"\u201eIzvan<\/p>\n

Prednost Lace sustava le\u017ei u tome \u0161to atomi nemaju difrakcijsko ograni\u010denje, dok je fotonska litografija, uklju\u010duju\u0107i EUV sustave ASML, ograni\u010dena valnom du\u017einom kori\u0161tene svjetlosti. Kako proizvo\u0111a\u010di mikro\u010dipova smanjuju veli\u010dine elemenata, oslanjaju se na sve slo\u017eenije metode vi\u0161eslojnog oblikovanja predlo\u017eaka kako bi zaobi\u0161li ovo ograni\u010denje, dok Lace koristi druga\u010diji pristup, zamjenjuju\u0107i fotone neutralnim helijevim atomima i snopom \u010dija je \u0161irinapristupotrebnaotprilike jednaka \u0161irini jednog atoma vodika.<\/p>\n

Lace opisuje svoje sustave kao BEUV, ili Beyond-EUV (\u201eiza EUV-a\u201c). Izvr\u0161na direktorica i suosniva\u010dica Lace, Bodil Holst, izjavila je da \u0107e tehnologija koju je razvila tvrtka omogu\u0107iti proizvo\u0111a\u010dima mikro\u010dipova ispisivanje plo\u010da s \u201ena kraju atomske razlu\u010divosti\u201c. Znanstveni direktor za litografiju Imec, John Petersen, smatra da ovaj pristup mo\u017ee smanjiti transistore i druge elemente za red veli\u010dine, do \u201egotovo nepojmljivog\u201c stupnja.<\/p>\n

Lace se pridru\u017eila rastu\u0107em broju startupova koji razvijaju alternative naprednoj litografiji ASML-a. Ameri\u010dke tvrtke Substrate i xLight razvijaju izvore svjetlosti temeljene na akceleratorima \u010destica za EUV- ili rendgensku litografiju, pri \u010demu je xLight dobila 150 milijuna dolara dr\u017eavnog financiranja iz SAD-a. Canon je isporu\u010dio svoj prvi alat za nanoinprint litografiju Texas Institute of Electronics ve\u0107 u rujnu 2024. godine, a kineska tvrtka Prinano nedavno je predstavila vlastiti sustav nanoinprint litografije na doma\u0107em tr\u017ei\u0161tu.<\/p>\n

Me\u0111utim, pristup Lace-a se razlikuje od svih ovih tvrtki. Dok Substrate i xLight i dalje koriste fotone, Lace potpuno odbacuje elektromagnetsko zra\u010denje. Iako je Lace ve\u0107 stvorila prototipove sustava, razlika izme\u0111u laboratorija i proizvodnje, kao i uvijek, je ogromna. Trenutno kompanija planira ugraditi probnu platformu u pilot postrojenje do 2029. godine, a rokovi za prelazak na serijsku proizvodnju jo\u0161 uvijek nisu objavljeni.<\/p>\n

Vrijedi napomenuti da je ASML potro\u0161ila desetlje\u0107a i milijarde dolara kako bi transformirala EUV litografiju iz istra\u017eiva\u010dkog koncepta u komercijalni proizvod. U Lace-u trenutno radi vi\u0161e od 50 ljudi u Norve\u0161koj, \u0160panjolskoj, Velikoj Britaniji i Nizozemskoj, a prve rezultate svojih istra\u017eivanja kompanija je prvi put predstavila na konferenciji SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026.<\/p>\n

Izvor:<\/strong><\/p>\n