אינטל תציג את מוצר ה-7 ננומטר הראשון ב-2021

• מוצר זה יהיה מעבד גרפי שנועד להאיץ את המחשוב במערכות שרתים.
• הפריון לוואט תגדל ב-20%, צפיפות הטרנזיסטורים צריכה להכפיל את עצמו.
• בשנת 2020, לאינטל יהיה זמן לשחרר מעבד גרפי 10nm.
• עד 2023, שלושה דורות של טכנולוגיית תהליך ה-7nm ישתנו.

אינטל ערכה זה עתה אירוע משקיעים שנועד להחדיר אמון במוחות הקרירים והרציונליים של הפוטנציאל הטכנולוגי והפיננסי של מפתח המעבד וה-GPU. כן, כן, נציגי אינטל הקדישו לא פחות תשומת לב לסוג האחרון של רכיבים בדוחות שלהם מאשר למעבדים מרכזיים.

במרדף אחר TSMC

המנכ"ל רוברט סוואן שוחח עם משקיעים על הכיוון הכללי של אינטל לפיתוח וטרנספורמציה, אך הוא גם הרגיש צורך לציין שהתאגיד ישקיע משאבים רציניים בשמירה על מובילותו בטכנולוגיות ליתוגרפיה. בשיא הרצינות, ההתקדמות של אינטל בתחום הושווה להצלחות של TSMC. מעבדי ה-10nm Ice Lake הראשונים למחשבים ניידים יוצגו ביוני, מעבדי שרת Ice Lake-SP יופיעו במחצית הראשונה של 2020, כאשר TSMC תספק ללקוחותיה באופן אקטיבי מוצרי 7nm. ובכן, בשנת 2021, אינטל מצפה לשחרר את מוצרי ה-7nm הראשונים שלה - עד אז TSMC תייצר מוצרי 5nm.

באופן כללי, העיקרית קריינות סגנית הנשיא Venkata Renduchintala דיברה על ההישגים של אינטל בפיתוח טכנולוגיית התהליך 7nm. אבל ראשית, הוא הסביר שהתהליך הטכנולוגי בן 10 יגבר על שלושה דורות בפיתוחו. הראשון יעלה לראשונה השנה (זה לא סופר את הניסיון הקודם בדמות Cannon Lake), השני יתחיל ב-2020, והשלישי כבר יתקיים במקביל לתהליך הטכני של 7 ננומטר ב-2021.

טכנולוגיית תהליך ה-7 ננומטר מהדור הראשון תכפיל את צפיפות הטרנזיסטורים בהשוואה לתהליך ה-10 ננומטר, תגדיל את ביצועי הטרנזיסטור ב-20% במונחים של ביצועים לוואט אנרגיה נצרך, ותפשט את תהליך התכנון פי ארבעה. לראשונה, אינטל תשתמש בליתוגרפיה אולטרה סגולה קשה במיוחד במסגרת טכנולוגיית 7 ננומטר. בנוסף, המתווה ההטרוגני של Foveros ומצע ה-EMIB מהדור החדש יוצגו באותו שלב.

טכנולוגיית תהליך ה-7 ננומטר עצמה, על פי המצגת של אינטל, תעבור גם היא שלושה שלבים בפיתוח שלה, כאשר אחד חדש יופיע מדי שנה, עד 2023 כולל. טכנולוגיית ה-7 ננומטר תנצל באופן מלא פריסה המאפשרת לשלב גבישים לא דומים על מצע אחד - מה שנקרא "שבבים".

הביכורים בטכנולוגיית תהליך 7nm יהיו פתרון גרפי דיסקרטי

המוצר הראשון המיוצר בטכנולוגיית 7nm אמור להיות מוצג ב-2021. כבר ידוע שזה יהיה מעבד גרפי לשימוש כללי שימצא יישום במרכזי נתונים ומערכות בינה מלאכותית. בעוד אינטל התנגדה בעבר לכנות "Intel Xe" ארכיטקטורה, זה בדיוק מה שהם עושים במצגת המשקיעים שלהם. חשוב לציין כי הביכורים 7nm יורכבו מקריסטלים לא דומים ויאמצו שיטות אריזה מתקדמות.

אינטל מדגישה במיוחד שלפני כן ייצא ב-2020 מעבד גרפי דיסקרטי שייוצר בטכנולוגיית 10nm. בהחלט ייתכן שהיא תגביל את היקף היישום שלה לפלח הצרכנים, ואינטל תשמור את גרסת ה-7 ננומטר לפלח השרתים. כפי שצוין קודם לכן, ה-GPUs הדיסקרטיים של אינטל ישתמשו בארכיטקטורה שעברה בירושה מליבות גרפיות משולבות. הקודמת למוצרים אלו תהיה הגרפיקה מדור ה-Gen11 שתבנה אינטל ברבים ממוצרי ה-10nm שלה.

כשהגיע תורו של סמנכ"ל הכספים החדש של אינטל, ג'ורג' דייויס, הוא מיהר לומר שבשאיפה לשפר את איכויות הצרכן של מוצרים במהלך המעבר מטכנולוגיית תהליך 10 ננומטר ל-7 ננומטר, החברה תנסה להוציא כסף בחוכמה. ובכן, לאחר שליטה בתהליך הטכני של 7 ננומטר, שחרור של דורות חדשים של מוצרים אמור להבטיח עלייה בהכנסה הספציפית של משקיעים למניה.

מקור: 3dnews.ru