אי אפשר לדמיין פיתוח נוסף של מיקרואלקטרוניקה מבלי לשפר את טכנולוגיות ייצור מוליכים למחצה. כדי להרחיב את הגבולות וללמוד כיצד לייצר אלמנטים קטנים יותר על גבי קריסטלים, יש צורך בטכנולוגיות חדשות וכלים חדשים. אחת מהטכנולוגיות הללו יכולה להיות פיתוח פורץ דרך של מדענים אמריקאים.
צוות חוקרים מהמעבדה הלאומית Argonne של משרד האנרגיה האמריקאי טכניקה חדשה ליצירה וחריטה של סרטים דקים על פני גבישים. זה עלול להוביל לייצור שבבים בקנה מידה קטן יותר מאשר היום ובעתיד הקרוב. המחקר פורסם בכתב העת Chemistry of Materials.
הטכניקה המוצעת דומה לתהליך המסורתי ותחריט, רק במקום סרטים אנאורגניים, הטכנולוגיה החדשה יוצרת ועובדת עם סרטים אורגניים. למעשה, באנלוגיה, הטכנולוגיה החדשה נקראת שקיעת שכבה מולקולרית (MLD, שכבה מולקולרית) ותחריט שכבה מולקולרית (MLE, תחריט שכבה מולקולרית).
כמו במקרה של תחריט שכבה אטומית, שיטת MLE משתמשת בטיפול בגז בתא של פני השטח של גביש עם סרטים של חומר על בסיס אורגני. הגביש מטופל באופן מחזורי בשני גזים שונים לסירוגין עד שהסרט מדולל לעובי נתון.
תהליכים כימיים כפופים לחוקי הוויסות העצמי. המשמעות היא ששכבה אחר שכבה מוסרת בצורה אחידה ובצורה מבוקרת. אם אתה משתמש במסכות פוטו, אתה יכול לשחזר את הטופולוגיה של השבב העתידי על השבב ולחרוט את העיצוב בדיוק הגבוה ביותר.
בניסוי השתמשו מדענים בגז המכיל מלחי ליתיום ובגז המבוסס על טרימתילאלומיניום לצורך תחריט מולקולרי. במהלך תהליך התחריט, תרכובת הליתיום הגיבה עם פני השטח של סרט האלוקון באופן שליתיום הושקע על פני השטח והרס את הקשר הכימי בסרט. לאחר מכן סופק טרימתילאלומיניום, שהסיר את שכבת הסרט עם ליתיום, וכך הלאה בזה אחר זה עד שהסרט הצטמצם לעובי הרצוי. יכולת שליטה טובה של התהליך, מאמינים מדענים, יכולה לאפשר לטכנולוגיה המוצעת לדחוף את הפיתוח של ייצור מוליכים למחצה.
מקור: 3dnews.ru