Ora bisa mbayangake pangembangan mikroelektronik luwih lanjut tanpa nambah teknologi produksi semikonduktor. Kanggo nggedhekake wates lan sinau carane ngasilake unsur sing luwih cilik ing kristal, teknologi anyar lan alat anyar dibutuhake. Salah sawijining teknologi kasebut bisa dadi pangembangan terobosan dening para ilmuwan Amerika.
Tim peneliti saka Laboratorium Nasional Argonne Departemen Energi AS technique anyar kanggo nggawe lan etching film tipis ing lumahing kristal. Iki bisa nyebabake produksi kripik kanthi skala sing luwih cilik tinimbang saiki lan ing mangsa ngarep. Panaliten kasebut diterbitake ing jurnal Chemistry of Materials.
Teknik sing diusulake meh padha karo proses tradisional lan etching, mung tinimbang film anorganik, teknologi anyar nggawe lan dianggo karo film organik. Bener, kanthi analogi, teknologi anyar kasebut diarani deposisi lapisan molekul (MLD, deposisi lapisan molekul) lan etsa lapisan molekul (MLE, etsa lapisan molekul).
Kaya ing kasus etsa lapisan atom, metode MLE nggunakake perawatan gas ing ruang permukaan kristal kanthi film saka bahan organik. Kristal kasebut diolah kanthi siklus kanthi rong gas sing beda-beda kanthi gantian nganti film kasebut diencerake kanthi kekandelan tartamtu.
Proses kimia tundhuk karo hukum angger-angger dhewe. Iki tegese lapisan sawise lapisan dibusak roto-roto lan ing proses kontrol. Yen sampeyan nggunakake photomasks, sampeyan bisa ngasilake topologi chip mangsa ing chip lan etch desain kanthi akurasi paling dhuwur.
Ing eksperimen kasebut, para ilmuwan nggunakake gas sing ngemot uyah lithium lan gas adhedhasar trimethylaluminum kanggo etsa molekul. Sajrone proses etsa, senyawa litium bereaksi karo permukaan film alucone kanthi cara litium disimpen ing permukaan lan ngrusak ikatan kimia ing film kasebut. Banjur trimethylaluminum diwenehake, sing mbusak lapisan film kanthi lithium, lan sateruse nganti film kasebut suda nganti ketebalan sing dikarepake. Kontrol proses sing apik, para ilmuwan percaya, bisa ngidini teknologi sing diusulake kanggo nyurung pangembangan produksi semikonduktor.
Source: 3dnews.ru