Intel პირველ 7 ნმ პროდუქტს 2021 წელს წარადგენს

• ეს პროდუქტი იქნება გრაფიკული პროცესორი, რომელიც შექმნილია სერვერულ სისტემებში გამოთვლების დასაჩქარებლად.
• პროდუქტიულობა ერთ ვატზე გაიზრდება 20%-ით, ტრანზისტორების სიმკვრივე უნდა გაორმაგდეს.
• 2020 წელს Intel-ს ექნება დრო, გამოუშვას 10 ნმ გრაფიკული პროცესორი.
• 2023 წლამდე შეიცვლება 7 ნმ პროცესის ტექნოლოგიის სამი თაობა.

Intel-მა ახლახან გამართა ინვესტორული ღონისძიება, რომელიც შექმნილია CPU-სა და GPU-ს დეველოპერის ტექნოლოგიური და ფინანსური პოტენციალის მაგარი, რაციონალური გონების გასაღვივებლად. დიახ, დიახ, Intel-ის წარმომადგენლებმა თავიანთ მოხსენებებში არანაკლებ ყურადღება მიაქციეს ამ უკანასკნელ ტიპის კომპონენტებს, ვიდრე ცენტრალურ პროცესორებს.

დევნაში TSMC

აღმასრულებელი დირექტორი რობერტ სვანი ინვესტორებს ესაუბრა ინტელის საერთო მიმართულებისა და ტრანსფორმაციის შესახებ, მაგრამ მან ასევე საჭიროდ ჩათვალა განეცხადებინა, რომ კორპორაცია სერიოზულ რესურსებს ჩადებს ლითოგრაფიულ ტექნოლოგიებში ლიდერობის შესანარჩუნებლად. მთელი სერიოზულობით, Intel-ის პროგრესი ამ სფეროში შეადარეს TSMC-ის წარმატებებს. ლეპტოპებისთვის პირველი 10 ნმ Ice Lake პროცესორები დაინერგება ივნისში, Ice Lake-SP სერვერის პროცესორები გამოჩნდება 2020 წლის პირველ ნახევარში, როდესაც TSMC აქტიურად მიაწოდებს მომხმარებელს 7 ნმ პროდუქტებს. 2021 წელს Intel-ი ელის თავისი პირველი 7 ნმ პროდუქტების გამოშვებას - ამ დროისთვის TSMC 5 ნმ პროდუქტებს აწარმოებს.

ზოგადად, მთავარი ნარატივი ვიცე-პრეზიდენტმა ვენკატა რენდუჩინტალამ ისაუბრა Intel-ის მიღწევებზე 7 ნმ პროცესის ტექნოლოგიის განვითარებაში. მაგრამ პირველ რიგში მან განმარტა, რომ 10-ტექნოლოგიური პროცესი თავის განვითარებაში სამ თაობას გადალახავს. პირველის დებიუტი წელს იქნება (ეს არ ითვლება Cannon Lake-ის წინა მცდელობად), მეორე 2020 წელს დაიწყება, ხოლო მესამე უკვე იარსებებს 7 ნმ ტექნიკური პროცესის პარალელურად 2021 წელს.

პირველი თაობის 7-ნმ პროცესის ტექნოლოგია გააორმაგებს ტრანზისტორების სიმკვრივეს 10 ნმ პროცესთან შედარებით, გაზრდის ტრანზისტორის მუშაობას 20%-ით პერვენტულობის თვალსაზრისით მოხმარებული ენერგიის ერთ ვატზე და გაამარტივებს დიზაინის პროცესს ოთხჯერ. პირველად Intel გამოიყენებს ულტრამყარ ულტრაიისფერ ლითოგრაფიას 7 ნმ ტექნოლოგიის ფარგლებში. გარდა ამისა, Foveros-ის ჰეტეროგენული განლაგება და ახალი თაობის EMIB სუბსტრატი დაინერგება იმავე ეტაპზე.

თავად 7 ნმ პროცესის ტექნოლოგია, Intel-ის პრეზენტაციის მიხედვით, ასევე გაივლის განვითარების სამ ფაზას, ახალი გამოჩნდება ყოველწლიურად, 2023 წლამდე. 7 ნმ ტექნოლოგია სრულად გამოიყენებს განლაგებას, რომელიც საშუალებას აძლევს განსხვავებული კრისტალების გაერთიანებას ერთ სუბსტრატზე - ე.წ. "ჩიპლეტები".

პირველი დაბადებული 7 ნმ პროცესის ტექნოლოგიაზე იქნება დისკრეტული გრაფიკული გადაწყვეტა

7 ნმ ტექნოლოგიით წარმოებული პირველი პროდუქტი 2021 წელს უნდა იყოს წარმოდგენილი. უკვე ცნობილია, რომ ეს იქნება ზოგადი დანიშნულების გრაფიკული პროცესორი, რომელიც იპოვის აპლიკაციას მონაცემთა ცენტრებსა და ხელოვნური ინტელექტის სისტემებში. მიუხედავად იმისა, რომ Intel ადრე ეწინააღმდეგებოდა "Intel Xe"-ს არქიტექტურას, ეს არის ზუსტად ის, რასაც ისინი აკეთებენ ინვესტორების პრეზენტაციაში. მნიშვნელოვანია აღინიშნოს, რომ 7 ნმ პირმშო შეიკრიბება განსხვავებული კრისტალებისგან და გამოიყენებს შეფუთვის მოწინავე მეთოდებს.

Intel განსაკუთრებით ხაზს უსვამს იმას, რომ მანამდე 2020 წელს გამოვა დისკრეტული გრაფიკული პროცესორი, რომელიც 10 ნმ ტექნოლოგიით იქნება წარმოებული. სავსებით შესაძლებელია, რომ მან შეზღუდოს მისი გამოყენების ფარგლები სამომხმარებლო სეგმენტზე, ხოლო Intel დაზოგავს 7 ნმ ვერსიას სერვერის სეგმენტისთვის. როგორც უკვე აღვნიშნეთ, Intel-ის დისკრეტული GPU-ები გამოიყენებენ ინტეგრირებული გრაფიკული ბირთვებიდან მემკვიდრეობით მიღებულ არქიტექტურას. ამ პროდუქტების წინამორბედი იქნება Gen11 თაობის გრაფიკა, რომელსაც Intel ააშენებს თავის ბევრ 10 ნმ პროდუქტში.

როდესაც დადგა Intel-ის ახალი ფინანსური დირექტორის, ჯორჯ დევისის ჯერი, მან დააჩქარა თქვა, რომ 10-ნმ-დან 7-ნმ პროცესორულ ტექნოლოგიაზე გადასვლისას პროდუქტების სამომხმარებლო თვისებების გაუმჯობესების მიზნით, კომპანია შეეცდება ფულის გონივრულად დახარჯვას. ისე, 7 ნმ ტექნოლოგიური პროცესის დაუფლების შემდეგ, ახალი თაობის პროდუქტების გამოშვებამ უნდა უზრუნველყოს ინვესტორების კონკრეტული შემოსავლის ზრდა აქციაზე.

წყარო: 3dnews.ru