ლაზერულ-სილიკონის ლითოგრაფია კვლავ იქნება დომინანტური მეთოდი ჩიპების წარმოებისთვის მომდევნო ათწლეულში.

ჯერ კიდევ მაისში, ASML-მა, ლიდერმა ლითოგრაფიის სკანერების სეგმენტში, ისაუბრა შემდეგი ათწლეულის დასაწყისისთვის სისტემების გაჩენის პერსპექტივაზე, რომლებიც საშუალებას იძლევა მუშაობა ულტრა მაღალი ციფრული დიაფრაგმის მნიშვნელობით 0,75 (Hyper-NA EUV). Imec-ის წარმომადგენლები აცხადებენ, რომ მომდევნო ათწლეულში ლითოგრაფია არ ჩამოშორდება ლაზერებისა და სილიკონის გამოყენებას. სურათის წყარო: ASML
წყარო: 3dnews.ru