레이저-실리콘 리소그래피는 향후 10년 동안 계속해서 칩을 생산하는 지배적인 방법이 될 것입니다.

지난 0,75월, 리소그래피 스캐너 부문의 선두주자인 ASML은 XNUMX(Hyper-NA EUV)의 초고개구수 값으로 작업할 수 있는 시스템이 향후 XNUMX년 초에 출현할 전망에 대해 이야기했습니다. Imec 대표자들은 향후 XNUMX년 동안 리소그래피가 레이저와 실리콘의 사용에서 벗어나지 않을 것이라고 주장합니다. 이미지 출처: ASML
출처 : 3dnews.ru