Samsung Electronics 10 нм процесс технологиясына киришүүнү улантууда. Бул жолу, экинчи муундагы 16 нм класстагы (4y-nm) процесс технологиясын колдонуу менен DDR10 эс тутумун массалык түрдө өндүрүү башталгандан 1 ай өткөндөн кийин, түштүк кореялык өндүрүүчү 4 нм класстын үчүнчү муунун колдонуу менен DDR10 эс өлчөгүчтөрдү иштеп чыгууну аяктады. 1з-нм) процессинин технологиясы. Эң негизгиси, үчүнчү муундагы 10 нм класс процесси дагы эле 193 нм литография сканерлерин колдонот жана өндүрүмдүүлүгү төмөн EUV сканерлерине ишенбейт. Бул акыркы 1z-нм процесстик технологиясын колдонуу менен эстутумду массалык түрдө чыгарууга өтүү салыштырмалуу тез жана линияларды кайра жабдуу үчүн олуттуу финансылык чыгымдарсыз боло тургандыгын билдирет.
Компания ушул жылдын экинчи жарымында 8 нм классындагы 4z-nm процесс технологиясын колдонуу менен 1 Гбит DDR10 чиптерин массалык түрдө чыгара баштайт. 20 нм технологиялык технологияга өткөндөн бери норма болуп калгандай, Samsung процесс технологиясынын так өзгөчөлүктөрүн ачыкка чыгарбайт. Компаниянын 1x-nm 10-nm классындагы техникалык процесси 18 нм стандарттарына жооп берет деп болжолдонууда, 1y-nm процесси 17- же 16-нм стандарттарына жооп берет жана акыркы 1z-nm 16 же 15-нм стандарттарына жооп берет жана балким, ал тургай, 13 нм чейин. Кандай болгон күндө да, техникалык процесстин масштабын азайтуу Samsung мойнуна алгандай, бир пластинкадан кристаллдардын түшүмүн кайрадан 20% га жогорулатты. Келечекте бул компанияга жаңы эстутумду арзаныраак же жакшы маржа менен атаандаштар өндүрүштө окшош натыйжаларга жетмейинче сатууга мүмкүндүк берет. Бирок, Samsung 1z-nm 16 Gbit DDR4 кристалл түзө албаганы бир аз кооптуу. Бул өндүрүштөгү кемчиликтердин көбөйүшүн күтүүдөн кабар бериши мүмкүн.
10 нм класстагы процесс технологиясынын үчүнчү муунун колдонуу менен компания биринчилерден болуп сервердик эстутумду жана жогорку класстагы компьютерлер үчүн эс тутумун чыгарат. Келечекте, 1z-nm 10nm класс процессинин технологиясы DDR5, LPDDR5 жана GDDR6 эстутумдарын өндүрүү үчүн ылайыкташтырылат. Серверлер, мобилдик түзүлүштөр жана графикалар тезирээк жана азыраак эс тутумду талап кылган эстутумдун артыкчылыктарын толук пайдалана алышат, бул жука өндүрүш стандарттарына өтүү менен шартталган.
Source: 3dnews.ru