Belsche Fuerschungszentrum Imec gebastelt Den Acquisitioun vum neisten EUV-Scanner vun ASML - dem TWINSCAN EXE:5200 mat enger héijer numerescher Apertur vun 0,55. De Scanner wäert eng ongehéiert Opléisung fir d'Hallefleederproduktioun ubidden, wat eng héich Nofro fir dës Technologien vun de Chip-Hiersteller garantéiert. Dëst erlaabt et Europa, weiderhin e Prozesstechnologie-Spender ze sinn, wéi et an de leschte Joerzéngten de Fall war.
De neie Scanner wäert déi optesch Opléisung vu konventionelle EUV-Systemer mat enger NA vun 0,33 iwwerschreiden an och eng erhéicht Wafer-Veraarbechtungsdurchsatz, operationell Stabilitéit a Prozessgeschwindegkeet liwweren. De System gëtt am 300 mm Wafer-Veraarbechtungs-Cleanroom vun Imec agesat a wäert als Mëttelpunkt vun der NanoIC-Pilotlinn déngen, déi entwéckelt gouf fir d'Entwécklung a Validatioun vun Technologien fir Chipfabrikatioun ënner 2 nm ze beschleunegen an d'Ångström-Ära anzeleeden.
D'Acquisitioun vun enger vun de wéinege sou Ariichtungen op der Welt duerch Imec ënnersträicht weider d'Féierungspositioun vun den europäeschen Entwéckler vun der Prozesstechnologie bei der Virbereedung vum globale Hallefleeder-Ökosystem op déi nächst Generatioun vun der Logik- a Speicherproduktioun.
Zu den technesche Virdeeler vun EUV-Systemer mat héijer numerescher Apertur (High-NA) gehéieren d'Méiglechkeet, méi kleng Strukturen an engem eenzege Laf ze drécken, Prozesser ze vereinfachen, Käschten ze reduzéieren an d'Ausbezuelung am Verglach zum Multi-Step-Maskéierungsprozess (Multi-Projektioun) vu Scanner vun der viregter Generatioun ze erhéijen. Den EXE:5200-System bitt en erhéichten Duerchgank, eng verbessert Genauegkeet vun der Feature-Ausriichtung a Kompatibilitéit mat neie Photoresistmaterialien (inklusiv Metalloxid-Photoresisten), wat entscheedend ass fir ultra-dicht Transistorarrays ze kreéieren.
An de leschten zwee Joer hunn Imec an ASML extensiv an engem gemeinsame High-NA EUV Laboratoire zu Veldhoven, Holland, zesummegeschafft, wou schonn Weltrekorder fir d'Linnopléisung erreecht goufen - zum Beispill goufen 16 nm breet Linnen an engem eenzege Laf fabrizéiert. Elo gëtt all dëst bei Imec op bal kommerzielle Linnen replizéiert, wouduerch d'Fuerschung op en industrielle Niveau bruecht gëtt mat voller Integratioun an d'Rohmaterialien, d'Veraarbechtung an d'Metrologie-Versuergungskette.
Et gëtt erwaart, datt den EXE:5200-System bis am véierte Quartal 2026 voll operationell ass. Bis dohin gëtt d'High-NA EUV-Fuerschung am gemeinsame ASML-Imec-Laboratoire zu Veldhoven weidergefouert, fir d'Kontinuitéit vun der Aarbecht fir béid Partner ze garantéieren. D'Imec-Anlag erméiglecht et dem Ökosystem (féierend Chiphersteller, Ausrüstungsliwweranten a Materialliwweranten) den fréisten an ëmfaassendsten Zougang zu Technologien vun der nächster Generatioun ze kréien. Dëst ass besonnesch wichteg fir d'Entwécklung vun energieeffizienten KI-Beschleuniger, Héichdicht-Speicher an aner Uwendungen, déi extrem Miniaturiséierung erfuerderen.
Déi strategesch Bedeitung vum Event gëtt duerch déi enk Partnerschaft vun Imec mat ASML, d'Ënnerstëtzung vun der Europäescher Unioun, de belsche a hollännesche Regierungen, an d'Finanzéierung iwwer d'Programmer Digital Europe an Horizon Europe ënnerstrach. Den Acquisitioun vun engem sou wäertvollen an eenzegaartege System (de Käschte vun all System gëtt op Honnerte vu Millioune Dollar geschat) bestätegt d'Roll vun Imec als wichtege Sprangbriet fir d'Industrie an der "Ångström-Ära". High-NA EUV-Technologie gëtt zum Eckpfeiler fir d'Ausdehnung vum Moore-Gesetz iwwer 2 nm eraus, wat eng käschtegënschteg Skalierung erméiglecht an de Wee fir A10/A7-Chips a méi eben mécht, wat entscheedend fir d'Kompetitivitéit vun Europa am globale Hallefleeder-Wettlaf ass.
Source:
Source: 3dnews.ru
