Zënter kuerzem huet et geschéngt datt Intel e bëssen duercherneen ass an der Nummeréierung vu Generatioune vu senger 10nm Prozesstechnologie. Nodeems Dir den neie Rutsch vun der ASML Presentatioun kuckt, gëtt et kloer datt Intel net iwwer seng 10nm Éischtgebuerten vergiesst, obwuel et net kommerziell op hinnen vertraut. Et gi scho Laptops um Maart baséiert op 10nm Ice Lake Prozessoren, a fréi d'nächst Joer ginn e puer Client Produkter am Zesummenhang mat der nächster Generatioun vun 10nm Technologie verëffentlecht.
Et ass zimmlech einfach d'Evolutioun vun der Klassifikatioun vun de Generatioune vun der 10-nm Prozesstechnologie ze verfolgen wéi vun Intel interpretéiert. De Mee Investor Event huet dräi traditionell Generatiounen opgezielt: déi éischt gouf fir 2019 gepecht, déi zweet war mam Label "10nm+" a gepecht fir 2020, an déi drëtt war mam Label "10nm++" fir 2021. Op D'Venkata Renduchintala, déi verantwortlech ass fir Technologie a Systemarchitektur bei Intel, huet erkläert datt och no der Verëffentlechung vun den éischte 7-nm Produkter d'10-nm Prozesstechnologie weider wäert verbesseren, an dëst ass zimlech adäquat illustréiert vun engem Rutsch aus dem Mee Presentatioun.
Dës Woch gouf d'ëffentlech Opmierksamkeet op eng aner Rutsch gezunn, déi op der IEDM Konferenz vu Vertrieder vun ASML, enger Firma aus Holland, déi Lithographieausrüstung produzéiert, demonstréiert gouf. Am Numm vun Intel huet dëse Partner vum Prozessor Riese versprach datt elo den Iwwergank op déi nächst Stuf vum technesche Prozess all zwee Joer duerchgefouert gëtt, a bis 2029 wäert d'Firma 1,4 nm Technologie beherrschen.
Site Vertrieder Mir kruten e "Leer" fir dës Rutsch, an där d'Entwécklung vun der 10nm Technologie an enger anerer Sequenz beschriwwe gouf: vun engem "Plus" am Joer 2019 op zwee "Plus" am Joer 2020, an dann dräi "Plus" am Joer 2021. Wou ass d'Debut Generatioun vun der 10nm Prozesstechnologie, déi Intel a klenge Chargen benotzt huet fir mobil Prozessoren aus der Cannon Lake Famill ze produzéieren, gaang? D'Firma huet et net vergiess, et ass just datt d'Timeline op der Rutsch net 2018 ofdeckt, wéi d'Produktioun vun Intel seng alleréischt masseproduzéiert 10nm Produkter ugefaang huet.
Ukënnegung vun Prozessoren Lakefield ass just ronderëm den Eck
Venkata Renduchintala vergiesst dës Sequenz net. Laut him, am Ufank vum nächste Joer gëtt den éischte Produkt vun der 10-nm++ Generatioun an de Clientssegment vum Maart verëffentlecht. Den Numm vun dësem Produkt gëtt net bekanntginn, awer wann Dir Äert Gedächtnis belaascht, kënnt Dir Korrespondenz mat Intel seng virdru ugekënnegt Pläng etabléieren. D'Firma huet versprach datt no den Ice Lake mobilen Prozessoren et Lakefield mobilen Prozessoren ginn, déi e komplexe Foveros raimleche Layout hunn an 10nm Kristalle mat Rechenkären benotzen. Véier kompakt Käre mat Tremont Architektur ginn nieft engem produktive Kär mat Sunny Cove Mikroarchitektur nieft, an e Gen11 Grafik-Subsystem mat 64 Ausféierungsunitéiten wäerten an der Géigend sinn.
Elo kënne mir soen datt Lakefield Prozessoren déi éischt Gebuert vun enger neier Generatioun vun 10nm Prozesstechnologie sinn. Ënner anerem wäerte se vu Microsoft a senger Surface Neo Famill vu mobilen Apparater benotzt ginn. Bis Enn vum nächste Joer ginn Tiger Lake mobilen Prozessoren versprach, déi och eng Versioun vun der "10 nm ++" Prozesstechnologie benotzen. Wa mir op d'Klassifikatioun vun de Generatioune vun der 10nm Prozesstechnologie zréckkommen, huet den Intel CEO Robert Swan op enger rezenter Credit Suisse Konferenz stänneg Ice Lake mobilen Prozessoren déi éischt Generatioun vun 10nm Produkter genannt, wéi wann iwwer Cannon Lake vergiessen, déi an der zweeter erauskoum. Véierel vum leschte Joer. Tatsächlech sinn et Meenungsverschiddenheeten tëscht Intel Senior Management an dëser Interpretatioun vum evolutive Wee vun 10nm Produkter.
De Venkata Renduchintala huet säin Engagement fir déi "alternativ dräi-plus Nummeréierung" mat engem anere Virworf gewisen. Hien huet gesot datt d'Problemer mat der Entwécklung vun der 10-nm Technologie den Timing vum Erscheinungsbild vun den entspriechende Produkter ëm zwee Joer vun der ursprénglecher geplangter Verréckelung verännert hunn. Am Joer 2013 goufen déi éischt 10nm Produkter erwaart am Joer 2016 ze erschéngen. Tatsächlech goufen se am Joer 2018 agefouert, wat enger Verspéidung vun zwee Joer entsprécht. Modern Intel Presentatiounen schwätzen dacks iwwer d'Erscheinung vun den éischten 10nm Produkter am Joer 2019, wat op Ice Lake mobilen Prozessoren bezitt anstatt Cannon Lake.
Um Wee op 10 nm: Schwieregkeeten nëmmen verstäerken
Den Dr Renduchintala huet betount datt d'Firma net gefeelt huet wann se mat Schwieregkeeten an der Meeschterleeschtung vun der 10nm Technologie konfrontéiert ass, an den Transistor Dicht Erhéijung Faktor bleift d'selwecht bei 2,7. Et huet méi laang gedauert fir d'10nm Technologie ze beherrschen wéi geplangt, awer d'technesch Parameter vum Prozess selwer goufen ouni Ännerunge behalen. Intel ass net prett d'Benotzung vun der 10nm Technologie opzeginn an direkt op d'7nm Prozesstechnologie ze wiesselen. Béid Etappe vun der Lithographie wäerte fir eng Zäit gläichzäiteg um Maart präsent sinn.
Ice Lake Server Prozessoren ginn an der zweeter Halschent vum nächste Joer agefouert. Laut Renduchintala wäerte se géint Enn 2020 verëffentlecht ginn. Hir Erscheinung gëtt virun der Ukënnegung vun 14nm Cooper Lake Prozessoren virausgesat, déi bis zu 56 Cores an Ënnerstëtzung fir nei Instruktiounssets ubidden. Wéi en Intel Vertrieder erkläert, op enger Zäit, beim Design vun den éischten 10-nm Produkter, gouf et kloer datt déi proposéiert technologesch Innovatiounen net ouni Probleemer existéiere kënnen, obwuel hir Ëmsetzung einfach schéngt wann Dir all Faktor separat studéiert. Déi praktesch Schwieregkeeten, déi entstane sinn, hunn d'Erscheinung vun 10nm Intel Produkter verspéit.
Awer elo, wann Dir nei Produkter designt, gëtt geometresch Skala geaffert fir d'Prévisibilitéit vum Ëmsetzung Timing. Intel ass engagéiert fir nei technologesch Prozesser all zwee oder zwee an en halleft Joer ze beherrschen. Zum Beispill, am Joer 2023, erschéngen déi éischt 5nm Produkter, déi mat der zweeter Generatioun EUV Lithographie produzéiert ginn. D'Erhéijung vun der Frequenz vun de Prozessverännerungen um Niveau vun de Kapitalausgaben gëtt duerch d'Méiglechkeet vun der Wiederverwendung vun der Ausrüstung kompenséiert, well no der Meeschterung vun der EUV Lithographie innerhalb der 7-nm Prozesstechnologie, weider Ëmsetzung vun dëser Technologie wäert manner Effort erfuerderen.
Source: 3dnews.ru