Laser-silicon lithography ຈະສືບຕໍ່ເປັນວິທີການທີ່ເດັ່ນຊັດໃນການຜະລິດຊິບທີ່ດີໃນທົດສະວັດຕໍ່ໄປ.

ກັບຄືນໄປໃນເດືອນພຶດສະພາ, ASML, ຜູ້ນໍາໃນພາກສ່ວນເຄື່ອງສະແກນ lithography, ໄດ້ເວົ້າກ່ຽວກັບຄວາມສົດໃສດ້ານສໍາລັບການເກີດຂື້ນໃນຕອນເລີ່ມຕົ້ນຂອງທົດສະວັດຕໍ່ໄປຂອງລະບົບທີ່ອະນຸຍາດໃຫ້ເຮັດວຽກກັບຄ່າຮູຮັບແສງທີ່ມີຕົວເລກສູງສຸດຂອງ 0,75 (Hyper-NA EUV). ຜູ້ຕາງຫນ້າ imec ອ້າງວ່າໃນທົດສະວັດຕໍ່ໄປ, lithography ຈະບໍ່ຍ້າຍອອກໄປຈາກການນໍາໃຊ້ lasers ແລະ silicon. ແຫຼ່ງຮູບພາບ: ASML
ແຫຼ່ງຂໍ້ມູນ: 3dnews.ru