Samsung เป„เบ”เป‰เป€เบฅเบตเปˆเบกเบฎเบฑเบšเป€เบญเบปเบฒเบ„เปเบฒเบชเบฑเปˆเบ‡เบชเปเบฒเบฅเบฑเบšเบเบฒเบ™เบœเบฐเบฅเบดเบ”เบŠเบดเบš 5nm

Samsung เบเปเบฒเบฅเบฑเบ‡เปƒเบŠเป‰เบ›เบฐเป‚เบซเบเบ”เบขเปˆเบฒเบ‡เป€เบ•เบฑเบกเบ—เบตเปˆเบˆเบฒเบเบ„เบงเบฒเบกเป„เบ”เป‰เบ›เบฝเบšเปƒเบ™เบเบฒเบ™เบšเบธเบเป€เบšเบตเบเบ‚เบญเบ‡เบ•เบปเบ™เปƒเบ™ lithography semiconductor เป‚เบ”เบเปƒเบŠเป‰เป€เบ„เบทเปˆเบญเบ‡เบชเบฐเปเบเบ™ EUV. เปƒเบ™เบ‚เบฐเบ™เบฐเบ—เบตเปˆ TSMC เบเบฐเบเบฝเบกเบ—เบตเปˆเบˆเบฐเป€เบฅเบตเปˆเบกเปƒเบŠเป‰เป€เบ„เบทเปˆเบญเบ‡เบชเบฐเปเบเบ™ 13,5 nm เปƒเบ™เป€เบ”เบทเบญเบ™เบกเบดเบ–เบธเบ™เบฒ, เบเบฒเบ™เบ›เบฑเบšเบ•เบปเบงเบžเบงเบเบกเบฑเบ™เป€เบžเบทเปˆเบญเบœเบฐเบฅเบดเบ”เบŠเบดเบšเปƒเบ™เบเบฒเบ™เบœเบฐเบฅเบดเบ”เบ—เบตเบชเบญเบ‡เบ‚เบญเบ‡เบ‚เบฐเบšเบงเบ™เบเบฒเบ™ 7 nm, Samsung เบเปเบฒเบฅเบฑเบ‡เบ”เปเบฒเบฅเบปเบ‡เป€เบฅเบดเบเปเบฅเบฐ. เบ›เบฐเบเบฒเบ” เบเปˆเบฝเบงเบเบฑเบšเบเบฒเบ™เบชเปเบฒเป€เบฅเบฑเบ”เบเบฒเบ™เบžเบฑเบ”เบ—เบฐเบ™เบฒเบ‚เบฐเบšเบงเบ™เบเบฒเบ™เบ”เป‰เบฒเบ™เบงเบดเบŠเบฒเบเบฒเบ™เบ—เบตเปˆเบกเบตเบกเบฒเบ”เบ•เบฐเบ–เบฒเบ™เบเบฒเบ™เบญเบญเบเปเบšเบš 5 nm. เบเบดเปˆเบ‡เป„เบ›เบเบงเปˆเบฒเบ™เบฑเป‰เบ™, เบเบฑเบเปƒเบซเบเปˆเบ‚เบญเบ‡เป€เบเบปเบฒเบซเบผเบตเปƒเบ•เป‰เป„เบ”เป‰เบ›เบฐเบเบฒเบ”เบเบฒเบ™เป€เบฅเบตเปˆเบกเบ•เบปเป‰เบ™เบเบฒเบ™เบเบญเบกเบฎเบฑเบšเบ„เปเบฒเบชเบฑเปˆเบ‡เบชเปเบฒเบฅเบฑเบšเบเบฒเบ™เบœเบฐเบฅเบดเบ”เป‚เบŠเบฅเบนเบŠเบฑเปˆเบ™ 5-nm เบชเปเบฒเบฅเบฑเบšเบเบฒเบ™เบœเบฐเบฅเบดเบ”เปƒเบ™ wafers เบซเบผเบฒเบเบเบฒเบ™เบญเบญเบเปเบšเบš. เบ™เบตเป‰เบซเบกเบฒเบเบ„เบงเบฒเบกเบงเปˆเบฒ Samsung เบžเป‰เบญเบกเบ—เบตเปˆเบˆเบฐเบเบญเบกเบฎเบฑเบšเบเบฒเบ™เบญเบญเบเปเบšเบšเบŠเบดเบšเบ”เบดเบˆเบดเบ•เบญเบฅเบ—เบตเปˆเบกเบตเบกเบฒเบ”เบ•เบฐเบ–เบฒเบ™ 5 nm เปเบฅเบฐเบœเบฐเบฅเบดเบ”เบŠเบธเบ”เบ—เบปเบ”เบฅเบญเบ‡เบ‚เบญเบ‡เบŠเบดเบฅเบดเป‚เบ„เบ™ 5 nm เบ—เบตเปˆเป€เบฎเบฑเบ”เบงเบฝเบ.

Samsung เป„เบ”เป‰เป€เบฅเบตเปˆเบกเบฎเบฑเบšเป€เบญเบปเบฒเบ„เปเบฒเบชเบฑเปˆเบ‡เบชเปเบฒเบฅเบฑเบšเบเบฒเบ™เบœเบฐเบฅเบดเบ”เบŠเบดเบš 5nm

เบŠเปˆเบงเบเปƒเบซเป‰เบšเปเบฅเบดเบชเบฑเบ”เบเป‰เบฒเบเบญเบญเบเป„เบ›เบขเปˆเบฒเบ‡เป„เบงเบงเบฒเบˆเบฒเบเบเบฒเบ™เบชเบฐเป€เบซเบ™เบต 7nm เบเบฑเบš EUV เบเบฑเบšเบเบฒเบ™เบœเบฐเบฅเบดเบ”เป‚เบŠเบฅเบนเบŠเบฑเปˆเบ™ 5nm เบเบฑเบš EUV เปเบกเปˆเบ™เบ„เบงเบฒเบกเบˆเบดเบ‡เบ—เบตเปˆเบงเปˆเบฒ Samsung เบฎเบฑเบเบชเบฒเบเบฒเบ™เป‚เบ•เป‰เบ•เบญเบšเบฅเบฐเบซเบงเปˆเบฒเบ‡เบญเบปเบ‡เบ›เบฐเบเบญเบšเบญเบญเบเปเบšเบš (IP), เบเบฒเบ™เบญเบญเบเปเบšเบšเปเบฅเบฐเป€เบ„เบทเปˆเบญเบ‡เบกเบทเบเบงเบ”เบชเบญเบš. เปƒเบ™เบšเบฑเบ™เบ”เบฒเบชเบดเปˆเบ‡เบญเบทเปˆเบ™เป†, เบ™เบตเป‰เบซเบกเบฒเบเบ„เบงเบฒเบกเบงเปˆเบฒเบฅเบนเบเบ„เป‰เบฒเบ‚เบญเบ‡เบšเปเบฅเบดเบชเบฑเบ”เบˆเบฐเบ›เบฐเบซเบเบฑเบ”เป€เบ‡เบดเบ™เปƒเบ™เบเบฒเบ™เบŠเบทเป‰เป€เบ„เบทเปˆเบญเบ‡เบกเบทเบเบฒเบ™เบญเบญเบเปเบšเบš, เบเบฒเบ™เบ—เบปเบ”เบชเบญเบšเปเบฅเบฐเบ•เบฑเบ™ IP เบ—เบตเปˆเบเบฝเบกเบžเป‰เบญเบก. PDKs เบชเปเบฒเบฅเบฑเบšเบเบฒเบ™เบญเบญเบเปเบšเบš, เบงเบดเบ—เบตเบเบฒเบ™ (DM, เบงเบดเบ—เบตเบเบฒเบ™เบญเบญเบเปเบšเบš) เปเบฅเบฐเป€เบงเบ—เบตเบเบฒเบ™เบญเบญเบเปเบšเบšเบญเบฑเบ”เบ•เบฐเป‚เบ™เบกเบฑเบ” EDA เป„เบ”เป‰เบเบฒเบเบกเบฒเป€เบ›เบฑเบ™เบชเปˆเบงเบ™เบซเบ™เบถเปˆเบ‡เบ‚เบญเบ‡เบเบฒเบ™เบžเบฑเบ”เบ—เบฐเบ™เบฒเบŠเบดเบšเบชเปเบฒเบฅเบฑเบšเบกเบฒเบ”เบ•เบฐเบ–เบฒเบ™ 7-nm เบ‚เบญเบ‡ Samsung เบเบฑเบš EUV เปƒเบ™เป„เบ•เบกเบฒเบ”เบ—เบตเปˆเบชเบตเปˆเบ‚เบญเบ‡เบ›เบตเบ—เบตเปˆเบœเปˆเบฒเบ™เบกเบฒ. เป€เบ„เบทเปˆเบญเบ‡เบกเบทเบ—เบฑเบ‡เบซเบกเบปเบ”เป€เบซเบผเบปเปˆเบฒเบ™เบตเป‰เบˆเบฐเบฎเบฑเบšเบ›เบฐเบเบฑเบ™เบเบฒเบ™เบžเบฑเบ”เบ—เบฐเบ™เบฒเป‚เบ„เบ‡เบเบฒเบ™เบ”เบดเบˆเบดเบ•เบญเบ™เบเบฑเบ‡เบชเปเบฒเบฅเบฑเบšเป€เบ•เบฑเบเป‚เบ™เป‚เบฅเบŠเบตเบ‚เบฐเบšเบงเบ™เบเบฒเบ™ 5 nm เบเบฑเบš FinFET transistors.

Samsung เป„เบ”เป‰เป€เบฅเบตเปˆเบกเบฎเบฑเบšเป€เบญเบปเบฒเบ„เปเบฒเบชเบฑเปˆเบ‡เบชเปเบฒเบฅเบฑเบšเบเบฒเบ™เบœเบฐเบฅเบดเบ”เบŠเบดเบš 5nm

เป€เบกเบทเปˆเบญเบ›เบฝเบšเบ—เบฝเบšเบเบฑเบšเบ‚เบฐเบšเบงเบ™เบเบฒเบ™ 7nm เป‚เบ”เบเปƒเบŠเป‰เป€เบ„เบทเปˆเบญเบ‡เบชเบฐเปเบเบ™ EUV, เบ—เบตเปˆเบšเปเบฅเบดเบชเบฑเบ” เป€เบ›เบตเบ”เบ•เบปเบงเปƒเบ™เป€เบ”เบทเบญเบ™เบ•เบธเบฅเบฒ เปƒเบ™เบ›เบตเบเบฒเบเบ™เบตเป‰, เป€เบ•เบฑเบเป‚เบ™เป‚เบฅเบŠเบตเบ‚เบฐเบšเบงเบ™เบเบฒเบ™ 5 nm เบˆเบฐเปƒเบซเป‰เบ›เบฐเบชเบดเบ”เบ—เบดเบžเบฒเบšเบ‚เบญเบ‡เบเบฒเบ™เบ™เปเบฒเปƒเบŠเป‰เบžเบทเป‰เบ™เบ—เบตเปˆเบŠเบดเบšเป€เบžเบตเปˆเบกเบ‚เบถเป‰เบ™ 25%. เบ™เบญเบเบˆเบฒเบเบ™เบตเป‰, เบเบฒเบ™เบซเบฑเบ™เบ›เปˆเบฝเบ™เป„เบ›เบชเบนเปˆเบ‚เบฐเบšเบงเบ™เบเบฒเบ™ 25-nm เบญเบฒเบ”เบˆเบฐเบซเบผเบธเบ”เบœเปˆเบญเบ™เบเบฒเบ™เบšเปเบฅเบดเป‚เบžเบเบŠเบดเบš 5% เบซเบผเบทเป€เบžเบตเปˆเบกเบ›เบฐเบชเบดเบ”เบ—เบดเบžเบฒเบšเบ‚เบญเบ‡เบเบฒเบ™เปเบเป‰เป„เบ‚เป‚เบ”เบ 20%. เป€เบ‡เบดเบ™เป‚เบšเบ™เบฑเบ”เบญเบตเบเบญเบฑเบ™เบซเบ™เบถเปˆเบ‡เปเบกเปˆเบ™เบเบฒเบ™เบซเบผเบธเบ”เบœเปˆเบญเบ™เบˆเปเบฒเบ™เบงเบ™ photomasks เบ—เบตเปˆเบˆเปเบฒเป€เบ›เบฑเบ™เบชเปเบฒเบฅเบฑเบšเบเบฒเบ™เบœเบฐเบฅเบดเบ” semiconductor.

Samsung เป„เบ”เป‰เป€เบฅเบตเปˆเบกเบฎเบฑเบšเป€เบญเบปเบฒเบ„เปเบฒเบชเบฑเปˆเบ‡เบชเปเบฒเบฅเบฑเบšเบเบฒเบ™เบœเบฐเบฅเบดเบ”เบŠเบดเบš 5nm

Samsung เบœเบฐเบฅเบดเบ”เบœเบฐเบฅเบดเบ”เบ•เบฐเบžเบฑเบ™เป‚เบ”เบเปƒเบŠเป‰เป€เบ„เบทเปˆเบญเบ‡เบชเบฐเปเบเบ™ EUV เบขเบนเปˆเป‚เบฎเบ‡เบ‡เบฒเบ™ S3 เปƒเบ™ Hwaseong. เปƒเบ™เป€เบ„เบดเปˆเบ‡เบ—เบตเปˆเบชเบญเบ‡เบ‚เบญเบ‡เบ›เบตเบ™เบตเป‰, เบšเปเบฅเบดเบชเบฑเบ”เบˆเบฐเบชเปเบฒเป€เบฅเบฑเบ”เบเบฒเบ™เบเปเปˆเบชเป‰เบฒเบ‡เบชเบฐเบ–เบฒเบ™เบ—เบตเปˆเปƒเบซเบกเปˆเบ•เปเปˆเป„เบ› Fab S3, เป€เบŠเบดเปˆเบ‡เบˆเบฐเบžเป‰เบญเบกเบ—เบตเปˆเบˆเบฐเบœเบฐเบฅเบดเบ”เบŠเบดเบšเบ—เบตเปˆเปƒเบŠเป‰เบ‚เบฐเบšเบงเบ™เบเบฒเบ™ EUV เปƒเบ™เบ›เบตเบซเบ™เป‰เบฒ.



เปเบซเบผเปˆเบ‡เบ‚เปเป‰เบกเบนเบ™: 3dnews.ru

เป€เบžเบตเปˆเบกเบ„เบงเบฒเบกเบ„เบดเบ”เป€เบซเบฑเบ™