เปเบโเปเบโเบกเบฒเบโเบเปเบฒเบโเบกเบฒ, เบเบฒเบโเบเบฐโเบฅเบดเบโเบงเบปเบโเบเบญเบโเบฅเบงเบกโเบเบญเบโเบเบตเบโเปเบเปโเปเบเบตเปเบกโเบเบถเปเบ 40%
เบเบงเบฒเบกเบเบฐเบเบฒเบเบฒเบกเบเบญเบเบญเปเบฒเบเบฒเบเบเบฒเบเบเบปเบเบเบญเบเบญเบฒเปเบกเบฅเบดเบเบฒเปเบเบทเปเบญเบชเบฐเบเบฑเบเบเบฑเปเบเบเบฒเบเบเบฑเบเบเบฐเบเบฒเปเบเบฑเบเปเบเปเบฅเบขเบตเบเบญเบเบเบตเบเปเบเบเบฐเปเบซเบเบ semiconductor, เบเบฑเปเบเบเบตเปเปเบเปเบฅเบฐเบเบธเปเบงเปเปเบฅเปเบง, เปเบเปเบเปเบฒเปเบเบชเบนเปเบเบฒเบเบเบฑเบเบเบฐเบเบฒเบขเปเบฒเบเปเบงเบงเบฒเบเบญเบเบเบฒเบเบเบฐเบฅเบดเบเบเปเบญเบเบเบดเปเบเปเบเบเปเบเป lithography เปเบเป, เปเบเบดเปเบเบเบฑเบเบเปเปเบเบฑเบเบเบทเบเบฅเบปเบเปเบเบ. เปเบโเปเบโเบกเบฒเบโเบเปเบฒเบโเบกเบฒ, เบเบฒเบกโเบเบฒเบโเบฅเบฒเบโเบเบฒเบโเบเบญเบโเบญเบปเบโเบเบฒเบโเบชเบฐโเบเบดโเบเบดโเบเบญเบโเบฅเบฑเบโเบเบฐโเบเบฒเบโเบเบตเบ, เบเบฐโเบฅเบดโเบกเบฒเบโเบเบฒเบโเบเบฐโเบฅเบดเบโเบเบญเบโเบงเบปเบโเบเบญเบโเบเบฐโเบชเบปเบกโเบเบฐโเบชเบฒเบโเปเบโเบเบฐโเปเบเบโเปเบเปโเปเบเบตเปเบกโเบเบถเปเบ 40% เปเบเบฑเบ 98,1 เบเบทเปโเปเปเบงเบ. เปเบซเบผเปเบเบฎเบนเบเบเบฒเบ: [โฆ]