- Šis produktas bus grafikos procesorius, skirtas paspartinti skaičiavimą serverių sistemose.
- Našumas vienam vatui padidės 20%, tranzistorių tankis turėtų padvigubėti.
- 2020 m. „Intel“ turės laiko išleisti 10 nm grafikos procesorių.
- Iki 2023 m. pasikeis trys 7 nm proceso technologijos kartos.
„Intel“ ką tik surengė investuotojų renginį, skirtą įkvėpti pasitikėjimo šaltais ir racionaliais procesoriaus ir GPU kūrėjų technologiniais ir finansiniais potencialais. Taip, taip, pastarojo tipo komponentams „Intel“ atstovai savo ataskaitose skyrė ne mažiau dėmesio nei centriniams procesoriams.
Siekdamas TSMC
Generalinis direktorius Robertas Swanas kalbėjosi su investuotojais apie bendrą „Intel“ plėtros ir transformacijos kryptį, tačiau manė, kad būtina teigti, kad korporacija investuos rimtus išteklius, kad išlaikytų lyderystę litografijos technologijų srityje. Kalbant rimtai, „Intel“ pažanga šioje srityje buvo lyginama su TSMC sėkme. Pirmieji 10 nm Ice Lake procesoriai nešiojamiesiems kompiuteriams bus pristatyti birželį, Ice Lake-SP serverių procesoriai pasirodys 2020 metų pirmoje pusėje, kai TSMC aktyviai tieks savo klientams 7 nm gaminius. Na, o 2021 m. „Intel“ tikisi išleisti savo pirmuosius 7 nm gaminius – iki to laiko TSMC gamins 5 nm gaminius.
Apskritai pagrindinis Viceprezidentė Venkata Renduchintala kalbėjo apie „Intel“ pasiekimus kuriant 7nm proceso technologiją. Tačiau pirmiausia jis paaiškino, kad 10 technologinis procesas įveiks tris savo vystymosi kartas. Pirmasis debiutuos šiais metais (į tai neįskaitomas ankstesnis bandymas Cannon Lake pavidalu), antrasis startuos 2020 m., o trečiasis jau egzistuos lygiagrečiai su 7 nm techniniu procesu 2021 m.
Pirmos kartos 7 nm proceso technologija padvigubins tranzistorių tankį, palyginti su 10 nm procesu, padidins tranzistorių našumą 20% pagal našumą vienam sunaudotos energijos vatui, o projektavimo procesą supaprastins keturis kartus. Pirmą kartą „Intel“ naudos itin kietą ultravioletinę litografiją pagal 7 nm technologiją. Be to, tame pačiame etape bus pristatytas nevienalytis Foveros išdėstymas ir naujos kartos EMIB substratas.
Pati 7 nm proceso technologija, remiantis „Intel“ pristatymu, taip pat pereis tris vystymosi fazes, o kiekvienais metais pasirodys nauja, iki 2023 m. imtinai. 7 nm technologija visiškai išnaudos išdėstymą, leidžiantį sujungti skirtingus kristalus ant vieno pagrindo – vadinamųjų „lustų“.
7 nm proceso technologijos pirmagimis bus atskiras grafinis sprendimas
Pirmasis produktas, pagamintas naudojant 7 nm technologiją, turėtų būti pristatytas 2021 m. Jau žinoma, kad tai bus bendrosios paskirties grafikos procesorius, kuris ras pritaikymą duomenų centruose ir dirbtinio intelekto sistemose. Nors „Intel“ anksčiau nevadino „Intel Xe“ architektūra, jie būtent tai ir daro savo investuotojų pristatyme. Svarbu pažymėti, kad 7 nm pirmagimis bus surinktas iš skirtingų kristalų ir pritaikys pažangius pakavimo metodus.
„Intel“ ypač pabrėžia, kad prieš tai 2020 metais bus išleistas atskiras grafikos procesorius, kuris bus gaminamas naudojant 10 nm technologiją. Visai gali būti, kad jis apribos savo taikymo sritį vartotojų segmente, o „Intel“ išsaugos 7 nm versiją serverių segmentui. Kaip minėta anksčiau, „Intel“ atskirieji GPU naudos architektūrą, paveldėtą iš integruotų grafikos branduolių. Šių produktų pirmtakas bus „Gen11“ kartos grafika, kurią „Intel“ dės į daugelį savo 10 nm gaminių.
Kai atėjo eilė naujajam „Intel“ finansų direktoriui George'ui Davisui, jis suskubo pasakyti, kad, pereinant nuo 10 nm į 7 nm proceso technologiją, siekdama pagerinti vartotojų savybes, bendrovė stengsis protingai leisti pinigus. Na, o įvaldžius 7 nm techninį procesą, naujų kartų gaminių išleidimas turėtų užtikrinti investuotojų specifinių pajamų vienai akcijai augimą.
Šaltinis: 3dnews.ru