Taivano puslaidininkių gamintojas TSMC paskelbė, kad pradeda masinę vieno lusto sistemų, naudojančių 7 nm+ technologinį procesą, gamybą. Verta paminėti, kad pardavėjas pirmą kartą gamina lustus, naudodamas litografiją kietajame ultravioletiniame diapazone (EUV), taip žengdamas dar vieną žingsnį konkuruodamas su „Intel“ ir „Samsung“.
TSMC tęsia bendradarbiavimą su Kinijos „Huawei“ pradėdama naujų „Kirin 985“ vieno lusto sistemų gamybą, kurios bus Kinijos technologijų milžinės „Mate 30“ serijos išmaniųjų telefonų pagrindas. Tas pats gamybos procesas naudojamas gaminant Apple A13 lustus, kurie, kaip tikimasi, bus naudojami 2019 m.
Be pranešimo apie naujų lustų masinės gamybos pradžią, TSMC kalbėjo ir apie savo ateities planus. Visų pirma tapo žinoma apie 5 nanometrų gaminių bandomosios gamybos pradžią naudojant EUV technologiją. Jei gamintojo planai nebus sugriauti, serijinė 5 nanometrų lustų gamyba bus pradėta kitų metų pirmąjį ketvirtį, o rinkoje jie galės pasirodyti arčiau 2020 metų vidurio.
Naujoji bendrovės gamykla, įsikūrusi Taivano pietiniame mokslo ir technologijų parke, sulaukia naujų įrenginių, susijusių su gamybos procesu. Tuo pat metu kita TSMC gamykla pradeda ruošti 3 nanometrų procesą. Taip pat kuriamas 6 nm perėjimo procesas, kuris greičiausiai bus šiuo metu naudojamos 7 nm technologijos atnaujinimas.
Šaltinis: 3dnews.ru