लेझर-सिलिकॉन लिथोग्राफी पुढील दशकात चीप तयार करण्यासाठी प्रबळ पद्धत राहील.

मे मध्ये, ASML, लिथोग्राफी स्कॅनर विभागातील एक नेता, 0,75 (हायपर-NA EUV) च्या अति-उच्च संख्यात्मक छिद्र मूल्यासह कार्य करण्यास परवानगी देणाऱ्या प्रणालींच्या पुढील दशकाच्या सुरूवातीस उदय होण्याच्या संभाव्यतेबद्दल बोलले. पुढील दशकात लिथोग्राफी लेझर आणि सिलिकॉन वापरणे सुरू ठेवेल असे आयएमईसीचे प्रतिनिधी सांगतात. प्रतिमा स्रोत: ASML
स्त्रोत: 3dnews.ru