Skont il-websajt tal-IEEE Spectrum, mill-aħħar ta’ Frar sal-bidu ta’ Marzu, inħoloq laboratorju fiċ-ċentru Belġjan tal-Imec flimkien mal-kumpanija Amerikana KMLabs biex jiġu studjati problemi bil-fotolitografija tas-semikondutturi taħt l-influwenza tar-radjazzjoni EUV (fl-ultra- medda ultravjola iebsa). Jidher, x'hemm biex tistudja hawn? Le, hemm suġġett għal studju, imma għaliex tistabbilixxi laboratorju ġdid għal dan? Samsung bdiet tipproduċi ċipep 7nm b'użu parzjali ta 'skaners EUV sitt xhur ilu. TSMC dalwaqt se jingħaqad magħha f'dan l-isforz. Sal-aħħar tas-sena, it-tnejn li huma se jibdew produzzjoni riskjuża bi standards ta '5 nm u l-bqija. U madankollu hemm problemi, u huma serji biżżejjed li t-tweġibiet għall-mistoqsijiet għandhom jiġu mfittxija fil-laboratorji, u mhux fil-produzzjoni.
Il-problema ewlenija fil-litografija EUV illum tibqa 'l-kwalità tal-fotoreżist. Is-sors tar-radjazzjoni EUV huwa plażma, mhux lejżer, kif inhu l-każ bi skaners anzjani ta '193 nm. Il-lejżer jevapora qatra ta 'ċomb f'ambjent gassuż u r-radjazzjoni li tirriżulta temetti fotoni, li l-enerġija tagħhom hija 14-il darba ogħla mill-enerġija tal-fotoni fi skaners b'radjazzjoni ultravjola. Bħala riżultat, il-photoresist mhux biss jinqered f'dawk il-postijiet fejn jiġi bbumbardjat minn fotoni, iżda jseħħu wkoll żbalji każwali, inkluż minħabba l-hekk imsejjaħ effett tal-ħoss frazzjonali. L-enerġija tal-fotoni hija għolja wisq. Esperimenti bi skaners EUV juru li photoresists, li għadhom kapaċi jaħdmu bi standards ta '7 nm, fil-każ tal-manifattura ta' ċirkwiti ta '5 nm juru livell kritiku għoli ta' difetti. Il-problema hija tant serja li ħafna esperti ma jemmnux fit-tnedija rapida b'suċċess tat-teknoloġija tal-proċess ta '5 nm, biex ma nsemmux it-tranżizzjoni għal 3 nm u taħt.
Il-problema tal-ħolqien ta 'ġenerazzjoni ġdida ta' photoresist se tiġi ppruvata biex tiġi solvuta fil-laboratorju konġunt ta 'Imec u KMLabs. U se jsolvuha mil-lat ta 'approċċ xjentifiku, u mhux billi jagħżlu reaġenti, kif sar fl-aħħar tletin sena fard. Biex tagħmel dan, l-imsieħba xjentifiċi se joħolqu għodda għal studju dettaljat tal-proċessi fiżiċi u kimiċi fil-photoresist. Tipikament, synchrotrons jintużaw biex jistudjaw proċessi fil-livell molekulari, iżda Imec u KMLabs qed jippjanaw li joħolqu tagħmir ta 'projezzjoni u kejl EUV ibbażat fuq lejżers infra-aħmar. KMLabs huwa speċjalista fis-sistemi tal-laser.
Ibbażat fuq l-installazzjoni tal-laser KMLabs, se tinħoloq pjattaforma għall-ġenerazzjoni ta 'armoniċi ta' ordni għolja. Tipikament, għal dan il-għan, polz tal-laser ta 'intensità għolja huwa dirett lejn mezz gassuż li fih jinqalgħu armoniċi ta' frekwenza għolja ħafna tal-polz dirett. B'tali konverżjoni, iseħħ telf sinifikanti ta 'enerġija, għalhekk prinċipju simili ta' ġenerazzjoni ta 'radjazzjoni EUV ma jistax jintuża direttament għal-litografija tas-semikondutturi. Iżda dan huwa biżżejjed għall-esperimenti. L-aktar importanti, ir-radjazzjoni li tirriżulta tista 'tiġi kkontrollata kemm permezz ta' tul ta 'polz li jvarja minn picoseconds (10-12) għal attoseconds (10-18), kif ukoll b'wavelength minn 6,5 nm sa 47 nm. Dawn huma kwalitajiet siewja għal strument tal-kejl. Huma se jgħinu biex jistudjaw il-proċessi ta 'bidliet molekulari ultra-veloċi fil-fotoreżist, proċessi ta' jonizzazzjoni u espożizzjoni għal fotoni ta 'enerġija għolja. Mingħajr dan, fotolitografija industrijali bi standards inqas minn 3 u anke 5 nm tibqa 'dubitata.
Sors: 3dnews.ru