अमेरिकामा न्यानोमिटर सेमीकन्डक्टरको उत्पादनको लागि नयाँ प्रविधि विकसित भएको छ

अर्धचालक उत्पादन प्रविधिहरू सुधार नगरी माइक्रोइलेक्ट्रोनिक्सको थप विकासको कल्पना गर्न असम्भव छ। सीमाहरू विस्तार गर्न र क्रिस्टलहरूमा स-साना तत्वहरू कसरी उत्पादन गर्ने भनेर सिक्न, नयाँ प्रविधिहरू र नयाँ उपकरणहरू आवश्यक छ। यी मध्ये एक टेक्नोलोजी अमेरिकी वैज्ञानिकहरु द्वारा एक सफलता विकास हुन सक्छ।

अमेरिकी ऊर्जा विभागको अर्गोन राष्ट्रिय प्रयोगशालाका अनुसन्धानकर्ताहरूको टोली विकसित भएको छ क्रिस्टलको सतहमा पातलो फिल्महरू सिर्जना गर्न र नक्काशी गर्ने नयाँ प्रविधि। यसले सम्भावित रूपमा आज र निकट भविष्यमा भन्दा सानो स्तरमा चिप्स उत्पादन गर्न सक्छ। यो अध्ययन केमिस्ट्री अफ मटेरियल्स जर्नलमा प्रकाशित भएको थियो ।

प्रस्तावित प्रविधि परम्परागत प्रक्रियासँग मिल्दोजुल्दो छ परमाणु तह निक्षेप र नक्काशी, केवल अजैविक फिल्महरूको सट्टा, नयाँ प्रविधिले जैविक फिल्महरू सिर्जना गर्दछ र काम गर्दछ। वास्तवमा, समानताका आधारमा, नयाँ प्रविधिलाई मोलिक्युलर लेयर डिपोजिसन (MLD, मोलिक्युलर लेयर डिपोजिसन) र मॉलिक्युलर लेयर इचिङ (MLE, मोलिक्युलर लेयर इचिङ) भनिन्छ।

परमाणु तह नक्काशीको मामलामा जस्तै, MLE विधिले कार्बनिक-आधारित सामग्रीको फिल्महरूको साथ क्रिस्टलको सतहको कक्षमा ग्यास उपचार प्रयोग गर्दछ। फिल्मलाई दिइएको मोटाईमा पातलो नभएसम्म क्रिस्टललाई चक्रीय रूपमा दुई फरक ग्यासहरूसँग वैकल्पिक रूपमा उपचार गरिन्छ।

रासायनिक प्रक्रियाहरू आत्म-नियमनका कानूनहरूको अधीनमा छन्। यसको अर्थ लेयर पछिको तह समान रूपमा र नियन्त्रित रूपमा हटाइन्छ। यदि तपाइँ फोटोमास्कहरू प्रयोग गर्नुहुन्छ भने, तपाइँ चिपमा भविष्यको चिपको टोपोलोजी पुन: उत्पादन गर्न सक्नुहुन्छ र उच्चतम शुद्धताको साथ डिजाइन ईच गर्न सक्नुहुन्छ।

प्रयोगमा, वैज्ञानिकहरूले आणविक नक्काशीको लागि लिथियम लवण र ट्राइमेथाइल्युमिनियममा आधारित ग्यास प्रयोग गरे। नक्काशी प्रक्रियाको क्रममा, लिथियम कम्पाउन्डले एल्युकोन फिल्मको सतहसँग यस्तो प्रतिक्रिया गर्‍यो कि लिथियम सतहमा जम्मा भयो र फिल्ममा रहेको रासायनिक बन्धनलाई नष्ट गर्‍यो। त्यसपछि ट्राइमेथिलालुमिनियम आपूर्ति गरिएको थियो, जसले लिथियमको साथ फिल्मको तह हटाइयो, र यसैले फिल्मलाई इच्छित मोटाईमा कम नभएसम्म एक एक गरी। प्रक्रियाको राम्रो नियन्त्रणयोग्यता, वैज्ञानिकहरू विश्वास गर्छन्, प्रस्तावित प्रविधिलाई अर्धचालक उत्पादनको विकासलाई धक्का दिन अनुमति दिन सक्छ।

स्रोत: 3dnews.ru