रास्टर ग्राफिक्स सम्पादक Krita 5.1 को रिलीज

कलाकार र चित्रकारहरूका लागि लक्षित रास्टर ग्राफिक्स सम्पादक कृति 5.1.0 को रिलीज प्रस्तुत गरिएको छ। सम्पादकले बहु-तह छवि प्रशोधनलाई समर्थन गर्दछ, विभिन्न रङ मोडेलहरूसँग काम गर्न उपकरणहरू प्रदान गर्दछ र डिजिटल चित्रकला, स्केचिङ र बनावट निर्माणको लागि उपकरणहरूको ठूलो सेट छ। लिनक्सका लागि AppImage ढाँचामा आत्म-पर्याप्त छविहरू, ChromeOS र एन्ड्रोइडका लागि प्रयोगात्मक एपीके प्याकेजहरू, साथै macOS र Windows का लागि बाइनरी एसेम्बलीहरू स्थापनाको लागि तयार गरिएको छ। परियोजना Qt पुस्तकालय प्रयोग गरेर C++ मा लेखिएको छ र GPLv3 लाइसेन्स अन्तर्गत वितरण गरिएको छ।

मुख्य आविष्कारहरू:

• तहहरूसँग सुधारिएको काम। एकै पटक धेरै चयन गरिएका तहहरूका लागि प्रतिलिपि, काट्ने, टाँस्ने र खाली गर्ने कार्यहरू गर्ने क्षमता थपियो। माउस बिना प्रयोगकर्ताहरूका लागि सन्दर्भ मेनु खोल्न तह नियन्त्रण प्यानलमा एउटा बटन थपिएको छ। समूहमा तहहरू पङ्क्तिबद्ध गर्न उपकरणहरू प्रदान गर्दछ। ब्लेन्डिङ मोडहरू प्रयोग गरेर चयन गरिएका क्षेत्रहरूमा रेखाचित्रको लागि समर्थन थपियो।
• WebP, JPEG-XL, OpenExr 2.3/3+ ढाँचाहरू, साथै Photoshop को लागि विशिष्ट तह संरचनाको साथ बहु-तह TIFF फाइलहरूको लागि समर्थन थपियो। Photoshop र अन्य Adobe कार्यक्रमहरूमा प्रयोग हुने ASE र ACB प्यालेटहरूको लागि समर्थन थपियो। PSD ढाँचामा छविहरू पढ्दा र बचत गर्दा, भर्ने तहहरू र रङ चिन्हहरूको लागि समर्थन लागू गरिएको छ।
• क्लिपबोर्डबाट सुधारिएको छवि पुन: प्राप्ति। टाँस्ने बेला, तपाईंले विकल्पहरू चयन गर्न सक्नुहुन्छ जसले तपाईंलाई क्लिपबोर्डमा विभिन्न अनुप्रयोगहरूमा छविहरू राख्ने सुविधाहरू प्रयोग गर्न अनुमति दिन्छ।
• XSIMD लाइब्रेरीमा आधारित भेक्टर CPU निर्देशनहरू प्रयोग गरेर सञ्चालनको गति बढाउन नयाँ ब्याकइन्ड तैनाथ गरिएको छ, जसले VC लाइब्रेरीमा आधारित पहिले प्रयोग गरिएको ब्याकइन्डको तुलनामा रङ मिश्रण प्रयोग गर्ने ब्रशहरूको कार्यसम्पादनमा सुधार गरेको छ, र यो पनि प्रदान गरिएको छ। एन्ड्रोइड प्लेटफर्ममा भेक्टराइजेशन प्रयोग गर्ने क्षमता।
• YCbCr रङ स्पेसका लागि प्रोफाइलहरू थपियो।
• नतिजा रङको पूर्वावलोकन गर्ने क्षेत्रलाई विशिष्ट रङ चयनकर्ता संवादमा थपिएको छ र HSV र RGB मोडहरू बीच स्विच गर्ने क्षमता लागू गरिएको छ।
• सञ्झ्याल आकार फिट गर्न सामग्री मापन गर्न विकल्प थपियो।
• भरिने उपकरणहरूको क्षमताहरू विस्तार गरिएको छ। दुई नयाँ मोडहरू थपिएका छन्: निरन्तर भर्नुहोस्, जसमा भरिने क्षेत्रहरू कर्सर सारेर निर्धारण गरिन्छ, र एन्क्लोज र फिल उपकरण, जसमा फिल चलिरहेको आयत वा अन्य आकार भित्र पर्ने क्षेत्रहरूमा लागू गरिन्छ। भर्ने बेला किनाराहरूको स्मूथिङ सुधार गर्न, FXAA एल्गोरिथ्म प्रयोग गरिन्छ।
• ब्रश चालको अधिकतम गति निर्धारण गर्न ब्रश उपकरणहरूमा सेटिङ थपिएको छ। अतिरिक्त कण वितरण मोडहरू स्प्रे ब्रशमा थपिएका छन्। स्केच ब्रश इन्जिनमा एन्टी-एलाइजिङ समर्थन थपिएको छ। इरेजरका लागि व्यक्तिगत सेटिङहरू परिभाषित गर्न अनुमति दिइएको छ।
• यो नियन्त्रण इशाराहरू अनुकूलित गर्न सम्भव छ, जस्तै जुम गर्न पिन्च, अनडू गर्न छुनुहोस्, र आफ्नो औंलाहरूले घुमाउनुहोस्।
• प्यालेटसँगको पप-अप संवादले थप सेटिङहरू प्रदान गर्दछ।
• भर्खरै खोलिएका फाइलहरू पहुँच गर्ने मेनुलाई पुन: डिजाइन गरिएको छ।
• परिवर्तनहरू रिसेट गर्न र बचत गर्न डिजिटल रङ मिक्सर इन्टरफेसमा बटनहरू थपिएका छन्।
• परिप्रेक्ष्यमा रेखाचित्रहरू सजिलो बनाउन एउटा उपकरण थपियो।
• स्तर फिल्टरलाई व्यक्तिगत च्यानलहरूमा लागू गर्न अनुमति दिइएको छ।
• विकासकर्ता प्रणालीहरूमा निर्माण समय कम गर्न, पूर्व-कम्पाइल गरिएको हेडर फाइलहरूसँग निर्माणको लागि समर्थन थपिएको छ।
• एन्ड्रोइड प्लेटफर्मको लागि निर्माणमा, OCIO रङ व्यवस्थापन प्रणाली प्रयोग गर्ने समस्याहरू समाधान गरिएको छ।
• विन्डोज प्लेटफर्ममा, ANGLE तहको लागि नयाँ कोड आधारमा ट्रान्जिसन गरिएको छ, जुन OpenGL ES कलहरूलाई Direct3D मा अनुवाद गर्न जिम्मेवार छ। विन्डोजले llvm-mingw टूलकिट प्रयोग गर्ने क्षमता पनि प्रदान गर्दछ, जसले RISC-V आर्किटेक्चरको लागि निर्माणलाई समर्थन गर्दछ।

स्रोत: opennet.ru