{"id":166072,"date":"2026-03-24T23:13:48","date_gmt":"2026-03-24T21:13:51","guid":{"rendered":"https:\/\/prohoster.info\/blog\/novosti-interneta\/za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm"},"modified":"2026-03-27T13:27:33","modified_gmt":"2026-03-27T11:27:33","slug":"za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/prohoster.info\/nl\/blog\/news\/za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm","title":{"rendered":"\u00abBuiten de EUV\u00bb: Lace Lithography bereidt lithografie op heliumatomen voor met een resolutie van 0,1 nm","gt_translate_keys":[{"key":"rendered","format":"text"}]},"content":{"rendered":"

De Noorse startup Lace Lithography, gesteund door Microsoft, heeft $40 miljoen opgehaald in haar eerste financieringsronde voor de ontwikkeling van een lithografie scanner die een straal helium atomen gebruikt voor het verwerken van silicium wafels. Het bedrijf bevestigt dat zijn technologie het mogelijk zal maken om chipcomponenten te cre\u00ebren die 10 keer kleiner zijn dan de huidige lithografiesystemen, met een straal van slechts 0,1 nm \u2013 EUV-scanners van ASML gebruiken straling met een golflengte van 13,5 nm.<\/p>\n

<\/center>\"\u00abBuiten<\/p>\n

Het voordeel van het Lace-systeem is dat atomen geen diffractiebeperking hebben, terwijl fotonische lithografie, inclusief EUV-systemen van ASML, beperkt is door de golflengte van het gebruikte licht. Naarmate chipfabrikanten de afmetingen van componenten verkleinen, vertrouwen ze steeds meer op ingewikkeldere methoden van gelaagd patroonvorming om deze beperking te omzeilen, maar Lace hanteert een andere aanpak door fotonen te vervangen door neutrale helium atomen en een straal die ongeveer gelijk is aan de breedte van \u00e9\u00e9n waterstofatoom.<\/p>\n

Lace beschrijft zijn systemen als BEUV, of Beyond-EUV (\u2018buiten EUV\u2019). CEO en medeoprichter van Lace, Bodil Holst, verklaarde dat de door het bedrijf ontwikkelde technologie het mogelijk zal maken voor chipfabrikanten om wafels te printen met \u2018uiteindelijk atomair resolutie\u2019. John Petersen, wetenschappelijk directeur lithografie bij Imec, denkt dat deze benadering transistors en andere componenten met een factor 10 kan verkleinen, tot een \u2018bijna onbegrijpelijk\u2019 niveau.<\/p>\n

Lace is zich aangesloten bij een groeiend aantal startups die alternatieven voor de geavanceerde lithografie van ASML ontwikkelen. Amerikaanse bedrijven Substrate en xLight ontwikkelen lichtbronnen op basis van deeltjesversnellers voor EUV- of r\u00f6ntgenlithografie, waarbij xLight $150 miljoen aan overheidssubsidies uit de VS heeft verkregen. Canon heeft in september 2024 zijn eerste instrument voor nano-imprint lithografie geleverd aan het Texas Institute of Electronics, terwijl het Chinese bedrijf Prinano onlangs zijn eigen systeem voor nano-imprint lithografie op de binnenlandse markt heeft ge\u00efntroduceerd.<\/p>\n

De aanpak van Lace verschilt echter van die van alle andere bedrijven. Terwijl Substrate en xLight nog steeds gebruikmaken van fotonen, weigert Lace volledig om elektromagnetische straling te gebruiken. Hoewel Lace al prototypes van het systeem heeft ontwikkeld, blijft de kloof tussen laboratorium en productie, zoals altijd, enorm. Momenteel is het bedrijf van plan om tegen 2029 een testopstelling op te zetten in een pilotfabriek, maar de tijdlijn voor de overgang naar massaproductie is nog niet bekendgemaakt.<\/p>\n

Het is vermeldenswaard dat ASML tientallen jaren en miljarden dollars heeft besteed aan het transformeren van EUV-lithografie van een onderzoeksconcept naar een commercieel product. Bij Lace werken momenteel meer dan 50 mensen in Noorwegen, Spanje, het Verenigd Koninkrijk en Nederland, en de eerste resultaten van hun onderzoek hebben ze voor het eerst gepresenteerd op de conferentie SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026.<\/p>\n

Bron:<\/strong><\/p>\n