„Poza EUV”: Lithografia Lace przygotowuje litografię na atomach helu z rozdzielczością 0,1 nm
Norweski startup Lace Lithography, wspierany przez Microsoft, pozyskał 40 mln dolarów w ramach pierwszej rundy finansowania na rozwój skanera litograficznego, wykorzystującego wiązkę atomów helu do obróbki wafli krzemowych. Firma twierdzi, że jej technologia umożliwi tworzenie elementów chipów o 10 razy mniejszych rozmiarach niż istniejące systemy litograficzne, o szerokości wiązki zaledwie 0,1 nm — skanery EUV ASML używają […]
