{"id":166072,"date":"2026-03-24T23:13:48","date_gmt":"2026-03-24T21:13:51","guid":{"rendered":"https:\/\/prohoster.info\/blog\/novosti-interneta\/za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm"},"modified":"2026-03-27T13:27:33","modified_gmt":"2026-03-27T11:27:33","slug":"za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/prohoster.info\/pl\/blog\/news\/za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm","title":{"rendered":"\u201ePoza EUV\u201d: Lithografia Lace przygotowuje litografi\u0119 na atomach helu z rozdzielczo\u015bci\u0105 0,1 nm","gt_translate_keys":[{"key":"rendered","format":"text"}]},"content":{"rendered":"

Norweski startup Lace Lithography, wspierany przez Microsoft, pozyska\u0142 40 mln USD w ramach pierwszej rundy finansowania na rozw\u00f3j skanera litograficznego, kt\u00f3ry wykorzystuje wi\u0105zk\u0119 atom\u00f3w helu przy obr\u00f3bce wafli krzemowych. Firma twierdzi, \u017ce jej technologia umo\u017cliwi tworzenie element\u00f3w chip\u00f3w 10 razy mniejszych ni\u017c istniej\u0105ce systemy litografii, przy szeroko\u015bci wi\u0105zki wynosz\u0105cej zaledwie 0,1 nm \u2014 skanery EUV firmy ASML wykorzystuj\u0105 promieniowanie o d\u0142ugo\u015bci fali 13,5 nm.<\/p>\n

<\/center>\"\u201ePoza<\/p>\n

Zalet\u0105 systemu Lace jest to, \u017ce atomy nie maj\u0105 ograniczenia dyfrakcyjnego, podczas gdy litografia fotonowa, w tym systemy EUV od ASML, jest ograniczona d\u0142ugo\u015bci\u0105 fali u\u017cywanego \u015bwiat\u0142a. W miar\u0119 jak producenci uk\u0142ad\u00f3w scalonych zmniejszaj\u0105 rozmiary element\u00f3w, polegaj\u0105 na coraz bardziej skomplikowanych metodach wielowarstwowego formowania wzor\u00f3w, aby obej\u015b\u0107 to ograniczenie, ale Lace stosuje inne podej\u015bcie, zast\u0119puj\u0105c fotony neutralnymi atomami helu i wi\u0105zk\u0105, kt\u00f3rej szeroko\u015b\u0107 jest zbli\u017cona do szeroko\u015bci jednego atomu wodoru.<\/p>\n

Lace opisuje swoje systemy jako BEUV, czyli Beyond-EUV (\"poza EUV\"). Dyrektor generalny i wsp\u00f3\u0142za\u0142o\u017cyciel Lace, Bodil Holst, stwierdzi\u0142a, \u017ce opracowana przez firm\u0119 technologia pozwoli producentom chip\u00f3w drukowa\u0107 wafle z \"ostatecznie atomow\u0105 rozdzielczo\u015bci\u0105\". Dyrektor ds. litografii w Imec, John Petersen, uwa\u017ca, \u017ce to podej\u015bcie mo\u017ce zmniejszy\u0107 tranzystory i inne elementy o rz\u0105d wielko\u015bci, do \"niemal niepoj\u0119tego\" stopnia.<\/p>\n

Lace do\u0142\u0105czy\u0142a do rosn\u0105cej liczby startup\u00f3w opracowuj\u0105cych alternatywy dla zaawansowanej litografii ASML. Ameryka\u0144skie firmy Substrate i xLight pracuj\u0105 nad \u017ar\u00f3d\u0142ami \u015bwiat\u0142a na bazie akcelerator\u00f3w cz\u0105stek do litografii EUV lub rentgenowskiej, przy czym xLight otrzyma\u0142a 150 mln USD pa\u0144stwowego finansowania w USA. Canon dostarczy\u0142 swoje pierwsze narz\u0119dzie do litografii nanoimprintowej do Texas Instruments ju\u017c we wrze\u015bniu 2024 roku, a chi\u0144ska firma Prinano niedawno zaprezentowa\u0142a w\u0142asny system litografii nanoimprintowej na rynku krajowym.<\/p>\n

Jednak podej\u015bcie Lace r\u00f3\u017cni si\u0119 od wszystkich tych firm. Podczas gdy Substrate i xLight nadal korzystaj\u0105 z foton\u00f3w, Lace ca\u0142kowicie rezygnuje z promieniowania elektromagnetycznego. Chocia\u017c Lace ju\u017c stworzy\u0142a prototypy systemu, r\u00f3\u017cnica mi\u0119dzy laboratorium a produkcj\u0105, jak zawsze, jest ogromna. W chwili obecnej firma planuje uruchomienie stanowiska testowego w pilota\u017cowym zak\u0142adzie do 2029 roku, a terminy przej\u015bcia do produkcji seryjnej na razie nie s\u0105 podane.<\/p>\n

Warto zauwa\u017cy\u0107, \u017ce ASML po\u015bwi\u0119ci\u0142o dziesi\u0119ciolecia i miliardy dolar\u00f3w na przekszta\u0142cenie EUV-litografii z koncepcji badawczej w produkt komercyjny. W Lace obecnie pracuje ponad 50 os\u00f3b w Norwegii, Hiszpanii, Wielkiej Brytanii i Holandii, a pierwsze wyniki swoich bada\u0144 firma po raz pierwszy zaprezentowa\u0142a na konferencji SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026.<\/p>\n

\u0179r\u00f3d\u0142o:<\/strong><\/p>\n