دا هیڅ پټه نه ده چې مشهور سیلیکون سولر پینلونه محدودیتونه لري چې څنګه په اغیزمنه توګه رڼا په بریښنا بدلوي. دا ځکه چې هر فوټون یوازې یو الکترون ماتوي، که څه هم د رڼا ذرې انرژي د دوه الکترونونو د ماتولو لپاره کافي وي. په یوه نوې څیړنه کې، د MIT ساینس پوهان ښیې چې دا بنسټیز محدودیت له منځه وړل کیدی شي، د سیلیکون سولر حجرو لپاره د پام وړ لوړ موثریت سره لاره هواره کړي.
د فوټون وړتیا چې دوه الکترونونه مات کړي په تیوريکي توګه شاوخوا 50 کاله دمخه توجیه شوي. مګر لومړنۍ بریالۍ تجربې یوازې 6 کاله وړاندې بیا تولید شوي. بیا، د عضوي موادو څخه جوړ شوی لمریز حجره د تجربې په توګه وکارول شوه. دا به لیوالتیا وي چې ډیر اغیزمن او بډایه سیلیکون ته لاړ شي، کوم چې ساینس پوهانو اوس یوازې د لوی مقدار کار له لارې ترلاسه کړي.
په وروستیو کې د سیلیکون سولر سیل په جوړولو کې بریالی شو چې د خپل نظري موثریت حد یې له 29,1٪ څخه 35٪ ته لوړ کړ، او شمیرل کیږي. له بده مرغه، د دې لپاره، لمریز حجره باید د دریو مختلفو موادو څخه جوړه شوې وي، نو پدې حالت کې دا ناشونې ده چې د monolithic سیلیکون سره ترلاسه شي. کله چې راټول شي، د سولر حجره د عضوي موادو څخه جوړه شوې سینڈوچ دی. د سطحي فلم په بڼه، د هافنیم اکسینایتراید ترټولو پتلی (څو اتومونو) فلم او په حقیقت کې د سیلیکون ویفر.
د ټیټراسین طبقه د لوړې انرژی فوټون جذبوي او خپله انرژي په طبقه کې په دوه ناڅاپي هڅونو بدلوي. دا تش په نامه quasiparticles دي . د جلا کولو پروسه د singlet exciton fission په نوم پیژندل کیږي. د یوې اندازې اندازې لپاره، excitons د برقیانو په څیر چلند کوي، او دا جوشونه د بریښنایی جریان تولید لپاره کارول کیدی شي. پوښتنه دا ده چې دا جوشونه څنګه سیلیکون او هاخوا ته لیږدول کیږي؟
د هافنیم اکسینایتراید پتلی طبقه د سطحي ټیټراسین فلم او سیلیکون تر مینځ یو ډول پل شو. په دې پرت کې پروسې او په سیلیکون باندې د سطحې اغیزې excitons په الکترون بدلوي، او بیا هرڅه د معمول په څیر پرمخ ځي. تجربه وتوانیدله وښیي چې دا په نیلي او شنه طیف کې د لمریز حجرو موثریت ډیروي. د ساینس پوهانو په وینا، دا د سیلیکون سولر حجرو د موثریت زیاتولو لپاره محدودیت ندی. مګر حتی وړاندې شوې ټیکنالوژي به کلونه وخت ونیسي چې سوداګریز شي.
سرچینه: 3dnews.ru