A startup norueguês, a Lace Lithography, com o apoio da Microsoft, arrecadou $40 milhões em sua primeira rodada de financiamento para desenvolver um scanner litográfico que utiliza um feixe de átomos de hélio no processamento de wafers de silício. A empresa afirma que sua tecnologia permitirá a criação de elementos de chips 10 vezes menores do que os sistemas de litografia existentes, com uma largura de feixe de apenas 0,1 nm — scanners EUV da ASML usam radiação com comprimento de onda de 13,5 nm.
A vantagem do sistema Lace é que os átomos não têm limite de difração, enquanto a litografia fotônica, incluindo os sistemas EUV da ASML, é limitada pelo comprimento de onda da luz utilizada. À medida que os fabricantes de chips diminuem as dimensões dos elementos, eles dependem de métodos cada vez mais complexos de formação de padrões em múltiplas camadas para contornar essa limitação, mas a Lace adota uma abordagem diferente, substituindo fótons por átomos neutros de hélio e um feixe cuja largura é aproximadamente igual à largura de um átomo de hidrogênio.
A Lace descreve seus sistemas como BEUV, ou Beyond-EUV (‘além da EUV’). O CEO e co-fundador da Lace, Bodil Holst, afirmou que a tecnologia desenvolvida pela empresa permitirá que os fabricantes de chips imprimam wafers com ‘na eventualidade resolução atômica’. O diretor científico de litografia da Imec, John Petersen, acredita que essa abordagem pode reduzir transistores e outros elementos em ordem de grandeza, até um nível ‘quase inimaginável’.
A Lace se juntou a um número crescente de startups que estão desenvolvendo alternativas à litografia avançada da ASML. As empresas americanas Substrate e xLight estão desenvolvendo fontes de luz baseadas em aceleradores de partículas para litografia EUV ou de raios X, sendo que a xLight obteve $150 milhões em financiamento público dos EUA. A Canon enviou sua primeira ferramenta para litografia de nanoimpressão ao Instituto de Eletrônica do Texas em setembro de 2024, e a empresa chinesa Prinano recentemente apresentou seu próprio sistema de litografia de nanoimpressão no mercado interno.
No entanto, a abordagem da Lace é diferente de todas essas empresas. Enquanto a Substrate e a xLight ainda usam fósforos, a Lace abandona completamente a radiação eletromagnética. Embora a Lace já tenha criado protótipos do sistema, a lacuna entre o laboratório e a produção, como sempre, é enorme. Atualmente, a empresa planeja implantar um teste em uma instalação piloto até 2029, e os prazos para a transição para a produção em série ainda não foram anunciados.
Vale ressaltar que a ASML gastou décadas e bilhões de dólares para transformar a litografia EUV de um conceito de pesquisa em um produto comercial. Atualmente, a Lace conta com mais de 50 pessoas trabalhando na Noruega, Espanha, Reino Unido e Países Baixos, e os primeiros resultados de suas pesquisas foram apresentados pela primeira vez na conferência SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026.
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Fonte: 3dnews.ru
