Ultimamente, parece que a Intel está um pouco confusa na numeração de gerações de sua tecnologia de processo de 10nm. Depois de ver o novo slide da apresentação ASML, fica claro que a Intel não está esquecendo seus primogênitos de 10nm, embora não dependa deles comercialmente. Já existem laptops no mercado baseados em processadores Ice Lake de 10 nm e no início do próximo ano serão lançados alguns produtos de clientes relacionados à próxima geração da tecnologia de 10 nm.
É bastante simples acompanhar a evolução da classificação das gerações da tecnologia de processo de 10 nm conforme interpretada pela Intel. O evento para investidores de maio listou três gerações tradicionais: a primeira foi indexada para 2019, a segunda foi rotulada como “10nm+” e indexada para 2020, e a terceira foi rotulada como “10nm++” para 2021. Sobre Venkata Renduchintala, responsável pela tecnologia e arquitetura de sistema da Intel, explicou que mesmo após o lançamento dos primeiros produtos de 7 nm, a tecnologia de processo de 10 nm continuará a melhorar, e isso é ilustrado de forma bastante adequada por um slide do Apresentação de maio.
Esta semana, outro slide chamou a atenção do público, que foi demonstrado na conferência do IEDM por representantes da ASML, empresa holandesa que produz equipamentos de litografia. Em nome da Intel, este parceiro da gigante dos processadores prometeu que agora a transição para a próxima etapa do processo técnico será realizada a cada dois anos, e até 2029 a empresa dominará a tecnologia de 1,4 nm.
Representantes do site Recebemos um “espaço em branco” para este slide, no qual o desenvolvimento da tecnologia de 10 nm foi descrito em uma sequência diferente: de um “mais” em 2019 a dois “pontos positivos” em 2020 e, em seguida, três “pontos positivos” em 2021. Para onde foi a geração de estreia da tecnologia de processo de 10 nm, que a Intel usou em pequenos lotes para produzir processadores móveis da família Cannon Lake? A empresa não se esqueceu disso, só que a linha do tempo no slide não cobre 2018, quando começou a produção dos primeiros produtos de 10 nm produzidos em massa da Intel.
Anúncio de processadores Lakefield está ao virar da esquina
Venkata Renduchintala não esquece esta sequência. Segundo ele, no início do próximo ano o primeiro produto da geração 10 nm++ será lançado para o segmento de clientes do mercado. O nome deste produto não é divulgado, mas se você forçar a memória, poderá estabelecer correspondência com os planos anunciados anteriormente pela Intel. A empresa prometeu que depois dos processadores móveis Ice Lake virão os processadores móveis Lakefield que terão um layout espacial Foveros complexo e usarão cristais de 10 nm com núcleos de computação. Quatro núcleos compactos com arquitetura Tremont serão adjacentes a um núcleo produtivo com microarquitetura Sunny Cove, e um subsistema gráfico Gen11 com 64 unidades de execução estará localizado nas proximidades.
Agora podemos dizer que os processadores Lakefield serão os primogênitos de uma nova geração de tecnologia de processo de 10 nm. Entre outras coisas, eles serão usados pela Microsoft em sua família de dispositivos móveis Surface Neo. Até o final do próximo ano, estão prometidos os processadores móveis Tiger Lake, que também usarão uma versão da tecnologia de processo “10 nm++”. Se voltarmos à classificação de gerações da tecnologia de processo de 10 nm, o CEO da Intel, Robert Swan, em uma recente conferência do Credit Suisse, constantemente chamou os processadores móveis Ice Lake de primeira geração de produtos de 10 nm, como se estivesse esquecendo de Cannon Lake, lançado no segundo trimestre do ano passado. Na verdade, existem divergências entre a alta administração da Intel nesta interpretação do caminho evolutivo dos produtos de 10 nm.
Venkata Renduchintala mostrou seu compromisso com a “numeração alternativa de três mais” com outra ressalva. Ele disse que os problemas com o desenvolvimento da tecnologia de 10 nm alteraram o tempo de aparecimento dos produtos correspondentes em dois anos em relação ao planejado originalmente. Em 2013, esperava-se que os primeiros produtos de 10 nm aparecessem em 2016. Na verdade, foram introduzidas em 2018, o que corresponde a um atraso de dois anos. As apresentações modernas da Intel costumam falar sobre o aparecimento dos primeiros produtos de 10 nm em 2019, que se referem aos processadores móveis Ice Lake em vez de Cannon Lake.
A caminho dos 10 nm: as dificuldades só se intensificam
Dr. Renduchintala enfatizou que a empresa não vacilou diante das dificuldades em dominar a tecnologia de 10 nm, e o fator de aumento da densidade do transistor permaneceu o mesmo em 2,7. Demorou mais para dominar a tecnologia de 10 nm do que o planejado, mas os parâmetros técnicos do processo em si foram mantidos sem alterações. A Intel não está pronta para abandonar o uso da tecnologia de 10 nm e mudar imediatamente para a tecnologia de processo de 7 nm. Ambas as etapas da litografia estarão presentes no mercado simultaneamente por algum período.
Os processadores de servidor Ice Lake serão lançados no segundo semestre do próximo ano. Segundo Renduchintala, eles serão lançados no final de 2020. Seu aparecimento será precedido pelo anúncio dos processadores Cooper Lake de 14 nm, que oferecerão até 56 núcleos e suporte para novos conjuntos de instruções. Como explica um representante da Intel, certa vez, ao projetar os primeiros produtos de 10 nm, ficou claro que as inovações tecnológicas propostas não poderiam coexistir sem problemas, embora sua implementação parecesse simples ao estudar cada fator separadamente. As dificuldades práticas que surgiram atrasaram o aparecimento dos produtos Intel de 10 nm.
Mas agora, ao conceber novos produtos, a escala geométrica será sacrificada pela previsibilidade do calendário de implementação. A Intel está comprometida em dominar novos processos tecnológicos a cada dois ou dois anos e meio. Por exemplo, em 2023 aparecerão os primeiros produtos de 5 nm, que serão produzidos com litografia EUV de segunda geração. O aumento da frequência de mudanças de processo ao nível das despesas de capital será compensado pela possibilidade de reutilização de equipamentos, porque depois de dominar a litografia EUV dentro da tecnologia de processo de 7 nm, a implementação adicional desta tecnologia exigirá menos esforço.
Fonte: 3dnews.ru