{"id":166072,"date":"2026-03-24T23:13:48","date_gmt":"2026-03-24T21:13:51","guid":{"rendered":"https:\/\/prohoster.info\/blog\/novosti-interneta\/za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm"},"modified":"2026-03-27T13:27:33","modified_gmt":"2026-03-27T11:27:33","slug":"za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/prohoster.info\/pt\/blog\/news\/za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm","title":{"rendered":"\u00abFora do EUV\u00bb: A Lace Lithography prepara a litografia em \u00e1tomos de h\u00e9lio com resolu\u00e7\u00e3o de 0,1 nm","gt_translate_keys":[{"key":"rendered","format":"text"}]},"content":{"rendered":"

A startup noruegu\u00eas, a Lace Lithography, com o apoio da Microsoft, arrecadou $40 milh\u00f5es em sua primeira rodada de financiamento para desenvolver um scanner litogr\u00e1fico que utiliza um feixe de \u00e1tomos de h\u00e9lio no processamento de wafers de sil\u00edcio. A empresa afirma que sua tecnologia permitir\u00e1 a cria\u00e7\u00e3o de elementos de chips 10 vezes menores do que os sistemas de litografia existentes, com uma largura de feixe de apenas 0,1 nm \u2014 scanners EUV da ASML usam radia\u00e7\u00e3o com comprimento de onda de 13,5 nm.<\/p>\n

<\/center>\"\u00abFora<\/p>\n

A vantagem do sistema Lace \u00e9 que os \u00e1tomos n\u00e3o t\u00eam limite de difra\u00e7\u00e3o, enquanto a litografia fot\u00f4nica, incluindo os sistemas EUV da ASML, \u00e9 limitada pelo comprimento de onda da luz utilizada. \u00c0 medida que os fabricantes de chips diminuem as dimens\u00f5es dos elementos, eles dependem de m\u00e9todos cada vez mais complexos de forma\u00e7\u00e3o de padr\u00f5es em m\u00faltiplas camadas para contornar essa limita\u00e7\u00e3o, mas a Lace adota uma abordagem diferente, substituindo f\u00f3tons por \u00e1tomos neutros de h\u00e9lio e um feixe cuja largura \u00e9 aproximadamente igual \u00e0 largura de um \u00e1tomo de hidrog\u00eanio.<\/p>\n

A Lace descreve seus sistemas como BEUV, ou Beyond-EUV (\u2018al\u00e9m da EUV\u2019). O CEO e co-fundador da Lace, Bodil Holst, afirmou que a tecnologia desenvolvida pela empresa permitir\u00e1 que os fabricantes de chips imprimam wafers com \u2018na eventualidade resolu\u00e7\u00e3o at\u00f4mica\u2019. O diretor cient\u00edfico de litografia da Imec, John Petersen, acredita que essa abordagem pode reduzir transistores e outros elementos em ordem de grandeza, at\u00e9 um n\u00edvel \u2018quase inimagin\u00e1vel\u2019.<\/p>\n

A Lace se juntou a um n\u00famero crescente de startups que est\u00e3o desenvolvendo alternativas \u00e0 litografia avan\u00e7ada da ASML. As empresas americanas Substrate e xLight est\u00e3o desenvolvendo fontes de luz baseadas em aceleradores de part\u00edculas para litografia EUV ou de raios X, sendo que a xLight obteve $150 milh\u00f5es em financiamento p\u00fablico dos EUA. A Canon enviou sua primeira ferramenta para litografia de nanoimpress\u00e3o ao Instituto de Eletr\u00f4nica do Texas em setembro de 2024, e a empresa chinesa Prinano recentemente apresentou seu pr\u00f3prio sistema de litografia de nanoimpress\u00e3o no mercado interno.<\/p>\n

No entanto, a abordagem da Lace \u00e9 diferente de todas essas empresas. Enquanto a Substrate e a xLight ainda usam f\u00f3sforos, a Lace abandona completamente a radia\u00e7\u00e3o eletromagn\u00e9tica. Embora a Lace j\u00e1 tenha criado prot\u00f3tipos do sistema, a lacuna entre o laborat\u00f3rio e a produ\u00e7\u00e3o, como sempre, \u00e9 enorme. Atualmente, a empresa planeja implantar um teste em uma instala\u00e7\u00e3o piloto at\u00e9 2029, e os prazos para a transi\u00e7\u00e3o para a produ\u00e7\u00e3o em s\u00e9rie ainda n\u00e3o foram anunciados.<\/p>\n

Vale ressaltar que a ASML gastou d\u00e9cadas e bilh\u00f5es de d\u00f3lares para transformar a litografia EUV de um conceito de pesquisa em um produto comercial. Atualmente, a Lace conta com mais de 50 pessoas trabalhando na Noruega, Espanha, Reino Unido e Pa\u00edses Baixos, e os primeiros resultados de suas pesquisas foram apresentados pela primeira vez na confer\u00eancia SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026.<\/p>\n

Fonte:<\/strong><\/p>\n