Startup-ul norvegian Lace Lithography, cu suportul Microsoft, a obținut 40 de milioane de dolari în cadrul primei runde de finanțare pentru dezvoltarea unui scanner litografic care folosește un fascicul de atomi de heliu pentru a prelucra plăcile de siliciu. Compania susține că tehnologia sa va permite crearea de elemente de cip de 10 ori mai mici decât sistemele actuale de litografie, cu o lățime a fasciculului de doar 0,1 nm – scanerele EUV de la ASML utilizează radiații cu o lungime de undă de 13,5 nm.
Avantajul sistemului Lace este că atomii nu au o limită de difracție, în timp ce litografia fotonică, inclusiv sistemele EUV de la ASML, este limitată de lungimea de undă a luminii folosite. Pe măsură ce producătorii de cipuri reduc dimensiunile elementelor, ei se bazează pe metode tot mai complexe de formare a tiparului în mai multe straturi pentru a ocoli această limitare, dar Lace folosește o abordare diferită, înlocuind fotonii cu atomi neutri de heliu și un fascicul a cărui lățime este aproximativ egală cu lățimea unui atom de hidrogen.
Lace își descrie sistemele ca BEUV, sau Beyond-EUV ("dincolo de EUV"). Directorul general și co-fondator al Lace, Bodil Holst, a afirmat că tehnologia dezvoltată de companie va permite producătorilor de cipuri să imprime plăci cu "în cele din urmă rezoluție atomică". Directorul științific pentru litografie de la Imec, John Petersen, consideră că această abordare ar putea micșora tranzistoarele și alte elemente cu un ordin de mărime, până la o "grad aproape inimaginabil".
Lace s-a alăturat numărului în creștere de startup-uri care dezvoltă alternative la litografia avansată de la ASML. Companiile americane Substrate și xLight dezvoltă surse de lumină bazate pe accelerate de particule pentru litografia EUV sau cu raze X, în timp ce xLight a obținut 150 de milioane de dolari din finanțare guvernamentală din SUA. Canon a livrat primul său instrument pentru litografia nanoimprimită Institutului Texas de Electronică înca din septembrie 2024, iar compania chineză Prinano a prezentat recent propriul său sistem de litografie nanoimprimită pe piața internă.
Totuşi, abordarea Lace se deosebeşte de toate aceste companii. În timp ce Substrate şi xLight continuă să folosească fotoni, Lace renunţă complet la radiaţia electromagnetică. Deşi Lace a creat deja prototype ale sistemului, distanţa dintre laborator şi producţie este, ca întotdeauna, uriaşă. În prezent, compania plănuieşte să implementeze un stand de testare la o întreprindere pilot până în 2029, iar termenele de trecere la producţia de serie nu sunt încă anunţate.
Merită menţionat că ASML a investit zeci de ani şi miliarde de dolari pentru a transforma litografia EUV dintr-o concept de cercetare într-un produs comercial. La Lace lucrează în prezent peste 50 de persoane în Norvegia, Spania, Regatul Unit şi Olanda, iar primele rezultate ale cercetărilor lor au fost prezentate pentru prima dată la conferinţa SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026.
Sursa:
Sursa: 3dnews.ru
