{"id":166072,"date":"2026-03-24T23:13:48","date_gmt":"2026-03-24T21:13:51","guid":{"rendered":"https:\/\/prohoster.info\/blog\/novosti-interneta\/za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm"},"modified":"2026-03-27T13:27:33","modified_gmt":"2026-03-27T11:27:33","slug":"za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/prohoster.info\/ro\/blog\/news\/za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm","title":{"rendered":"\u201eDincolo de EUV\u201d: Lace Lithography preg\u0103te\u0219te litografia pe atomi de heliu cu o rezolu\u021bie de 0,1 nm","gt_translate_keys":[{"key":"rendered","format":"text"}]},"content":{"rendered":"

Startup-ul norvegian Lace Lithography, cu suportul Microsoft, a ob\u021binut 40 de milioane de dolari \u00een cadrul primei runde de finan\u021bare pentru dezvoltarea unui scanner litografic care folose\u0219te un fascicul de atomi de heliu pentru a prelucra pl\u0103cile de siliciu. Compania sus\u021bine c\u0103 tehnologia sa va permite crearea de elemente de cip de 10 ori mai mici dec\u00e2t sistemele actuale de litografie, cu o l\u0103\u021bime a fasciculului de doar 0,1 nm \u2013 scanerele EUV de la ASML utilizeaz\u0103 radia\u021bii cu o lungime de und\u0103 de 13,5 nm.<\/p>\n

<\/center>\"\u201eDincolo<\/p>\n

Avantajul sistemului Lace este c\u0103 atomii nu au o limit\u0103 de difrac\u021bie, \u00een timp ce litografia fotonic\u0103, inclusiv sistemele EUV de la ASML, este limitat\u0103 de lungimea de und\u0103 a luminii folosite. Pe m\u0103sur\u0103 ce produc\u0103torii de cipuri reduc dimensiunile elementelor, ei se bazeaz\u0103 pe metode tot mai complexe de formare a tiparului \u00een mai multe straturi pentru a ocoli aceast\u0103 limitare, dar Lace folose\u0219te o abordare diferit\u0103, \u00eenlocuind fotonii cu atomi neutri de heliu \u0219i un fascicul a c\u0103rui l\u0103\u021bime este aproximativ egal\u0103 cu l\u0103\u021bimea unui atom de hidrogen.<\/p>\n

Lace \u00ee\u0219i descrie sistemele ca BEUV, sau Beyond-EUV (\"dincolo de EUV\"). Directorul general \u0219i co-fondator al Lace, Bodil Holst, a afirmat c\u0103 tehnologia dezvoltat\u0103 de companie va permite produc\u0103torilor de cipuri s\u0103 imprime pl\u0103ci cu \"\u00een cele din urm\u0103 rezolu\u021bie atomic\u0103\". Directorul \u0219tiin\u021bific pentru litografie de la Imec, John Petersen, consider\u0103 c\u0103 aceast\u0103 abordare ar putea mic\u0219ora tranzistoarele \u0219i alte elemente cu un ordin de m\u0103rime, p\u00e2n\u0103 la o \"grad aproape inimaginabil\".<\/p>\n

Lace s-a al\u0103turat num\u0103rului \u00een cre\u0219tere de startup-uri care dezvolt\u0103 alternative la litografia avansat\u0103 de la ASML. Companiile americane Substrate \u0219i xLight dezvolt\u0103 surse de lumin\u0103 bazate pe accelerate de particule pentru litografia EUV sau cu raze X, \u00een timp ce xLight a ob\u021binut 150 de milioane de dolari din finan\u021bare guvernamental\u0103 din SUA. Canon a livrat primul s\u0103u instrument pentru litografia nanoimprimit\u0103 Institutului Texas de Electronic\u0103 \u00eenca din septembrie 2024, iar compania chinez\u0103 Prinano a prezentat recent propriul s\u0103u sistem de litografie nanoimprimit\u0103 pe pia\u021ba intern\u0103.<\/p>\n

Totu\u015fi, abordarea Lace se deosebe\u015fte de toate aceste companii. \u00cen timp ce Substrate \u015fi xLight continu\u0103 s\u0103 foloseasc\u0103 fotoni, Lace renun\u0163\u0103 complet la radia\u0163ia electromagnetic\u0103. De\u015fi Lace a creat deja prototype ale sistemului, distan\u0163a dintre laborator \u015fi produc\u0163ie este, ca \u00eentotdeauna, uria\u015f\u0103. \u00cen prezent, compania pl\u0103nuie\u015fte s\u0103 implementeze un stand de testare la o \u00eentreprindere pilot p\u00e2n\u0103 \u00een 2029, iar termenele de trecere la produc\u0163ia de serie nu sunt \u00eenc\u0103 anun\u0163ate.<\/p>\n

Merit\u0103 men\u0163ionat c\u0103 ASML a investit zeci de ani \u015fi miliarde de dolari pentru a transforma litografia EUV dintr-o concept de cercetare \u00eentr-un produs comercial. La Lace lucreaz\u0103 \u00een prezent peste 50 de persoane \u00een Norvegia, Spania, Regatul Unit \u015fi Olanda, iar primele rezultate ale cercet\u0103rilor lor au fost prezentate pentru prima dat\u0103 la conferin\u0163a SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026.<\/p>\n

Sursa:<\/strong><\/p>\n