Nórsky startup Lace Lithography s podporou Microsoft získal 40 miliónov dolárov v rámci prvého kola financovania na vývoj litografického skeneru, ktorý využíva zväzok hélia pri spracovaní kremíkových dosiek. Spoločnosť tvrdí, že jej technológia umožní vytvárať čipy v desaťkrát menšom rozmere než súčasné litografické systémy, s šírkou zväzku iba 0,1 nm — EUV skenery ASML používajú žiarenie s vlnovou dĺžkou 13,5 nm.
Výhodou systému Lace je, že atómy nemajú difrakčnú hranicu, zatiaľ čo fotónová litografia, vrátane EUV systémov od ASML, je obmedzená vlnovou dĺžkou použitého svetla. Ako výrobcovia mikroobvodov zmenšujú rozmery prvkov, spoliehajú sa na stále komplexnejšie metódy vrstveného formovania vzorov, aby obchádzali toto obmedzenie, ale Lace používa iný prístup, nahrádzajúc fotóny neutrálnymi atómami hélia a zväzkom, ktorého šírka je približne rovná šírke jedného atómu vodíka.
Lace opisuje svoje systémy ako BEUV, alebo Beyond-EUV („za hranicou EUV“). Generálna riaditeľka a spoluzakladateľka Lace Bodil Holst uviedla, že technológia vyvinutá spoločnosťou umožní výrobcom čipov tlačiť dosky s „nakoniec atómovým rozlíšením“. Vedecký riaditeľ pre litografiu Imec John Petersen považuje tento prístup za schopný zmenšiť tranzistory a ďalšie prvky o poriadok, až po „takmer nepredstaviteľný“ stupeň.
Lace sa pripojila k rastúcemu počtu startupov, ktoré vyvíjajú alternatívy pokročilej litografie ASML. Americké spoločnosti Substrate a xLight vyvíjajú zdroje svetla na báze urýchľovačov častíc pre EUV alebo rentgenovú litografiu, pričom xLight získala 150 miliónov dolárov z vládneho financovania USA. Canon dodal svoj prvý nástroj pre nanoimprintovú litografiu na Texaský inštitút elektroniky už v septembri 2024, zatiaľ čo čínska spoločnosť Prinano nedávno predstavila vlastný systém nanoimprintovej litografie na domácom trhu.
Prístup spoločnosti Lace sa však od všetkých týchto spoločností líši. Zatiaľ čo Substrate a xLight stále využívajú fotóny, Lace úplne upúšťa od elektromagnetického žiarenia. Hoci Lace už vytvorila prototypy systému, medzera medzi laboratóriom a výrobou je, ako vždy, obrovská. V súčasnosti spoločnosť plánuje nasadiť testovaciu platformu na pilotnej prevádzke do roku 2029, pričom termíny prechodu na sériovú výrobu zatiaľ nie sú známe.
Je potrebné poznamenať, že ASML strávila desaťročia a miliardy dolárov premenou EUV-litografie z výskumnej koncepcie na komerčný produkt. V Lace v súčasnosti pracuje viac ako 50 ľudí v Nórsku, Španielsku, Spojenom kráľovstve a Holandsku, pričom prvé výsledky svojich prieskumov spoločnosť prvýkrát predstavila na konferencii SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026.
Zdroj:
Zdroj: 3dnews.ru
