Ešte v máji ASML, líder v segmente litografických skenerov, hovoril o vyhliadkach na vznik systémov, ktoré umožňujú prácu s ultra vysokou hodnotou numerickej apertúry 0,75 (Hyper-NA EUV), začiatkom budúceho desaťročia. Zástupcovia Imec hovoria, že litografia bude aj v nasledujúcom desaťročí naďalej využívať lasery a kremík. Zdroj obrázkov: ASML
Zdroj: 3dnews.ru
