{"id":166072,"date":"2026-03-24T23:13:48","date_gmt":"2026-03-24T21:13:51","guid":{"rendered":"https:\/\/prohoster.info\/blog\/novosti-interneta\/za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm"},"modified":"2026-03-27T13:27:33","modified_gmt":"2026-03-27T11:27:33","slug":"za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/prohoster.info\/sk\/blog\/news\/za-predelami-euv-lace-lithography-gotovit-litografiyu-na-atomah-geliya-s-razresheniem-01-nm","title":{"rendered":"\u201eMimo EUV\u201c: Lace Lithography pripravuje litografiu na at\u00f3mov\u00fdch h\u00e9liov\u00fdch l\u00fa\u010doch s rozl\u00ed\u0161en\u00edm 0,1 nm","gt_translate_keys":[{"key":"rendered","format":"text"}]},"content":{"rendered":"

N\u00f3rsky startup Lace Lithography s podporou Microsoft z\u00edskal 40 mili\u00f3nov dol\u00e1rov v r\u00e1mci prv\u00e9ho kola financovania na v\u00fdvoj litografick\u00e9ho skeneru, ktor\u00fd vyu\u017e\u00edva zv\u00e4zok h\u00e9lia pri spracovan\u00ed krem\u00edkov\u00fdch dosiek. Spolo\u010dnos\u0165 tvrd\u00ed, \u017ee jej technol\u00f3gia umo\u017en\u00ed vytv\u00e1ra\u0165 \u010dipy v desa\u0165kr\u00e1t men\u0161om rozmere ne\u017e s\u00fa\u010dasn\u00e9 litografick\u00e9 syst\u00e9my, s \u0161\u00edrkou zv\u00e4zku iba 0,1 nm \u2014 EUV skenery ASML pou\u017e\u00edvaj\u00fa \u017eiarenie s vlnovou d\u013a\u017ekou 13,5 nm.<\/p>\n

<\/center>\"\u201eMimo<\/p>\n

V\u00fdhodou syst\u00e9mu Lace je, \u017ee at\u00f3my nemaj\u00fa difrak\u010dn\u00fa hranicu, zatia\u013e \u010do fot\u00f3nov\u00e1 litografia, vr\u00e1tane EUV syst\u00e9mov od ASML, je obmedzen\u00e1 vlnovou d\u013a\u017ekou pou\u017eit\u00e9ho svetla. Ako v\u00fdrobcovia mikroobvodov zmen\u0161uj\u00fa rozmery prvkov, spoliehaj\u00fa sa na st\u00e1le komplexnej\u0161ie met\u00f3dy vrstven\u00e9ho formovania vzorov, aby obch\u00e1dzali toto obmedzenie, ale Lace pou\u017e\u00edva in\u00fd pr\u00edstup, nahr\u00e1dzaj\u00fac fot\u00f3ny neutr\u00e1lnymi at\u00f3mami h\u00e9lia a zv\u00e4zkom, ktor\u00e9ho \u0161\u00edrka je pribli\u017ene rovn\u00e1 \u0161\u00edrke jedn\u00e9ho at\u00f3mu vod\u00edka.<\/p>\n

Lace opisuje svoje syst\u00e9my ako BEUV, alebo Beyond-EUV (\u201eza hranicou EUV\u201c). Gener\u00e1lna riadite\u013eka a spoluzakladate\u013eka Lace Bodil Holst uviedla, \u017ee technol\u00f3gia vyvinut\u00e1 spolo\u010dnos\u0165ou umo\u017en\u00ed v\u00fdrobcom \u010dipov tla\u010di\u0165 dosky s \u201enakoniec at\u00f3mov\u00fdm rozl\u00ed\u0161en\u00edm\u201c. Vedeck\u00fd riadite\u013e pre litografiu Imec John Petersen pova\u017euje tento pr\u00edstup za schopn\u00fd zmen\u0161i\u0165 tranzistory a \u010fal\u0161ie prvky o poriadok, a\u017e po \u201etakmer nepredstavite\u013en\u00fd\u201c stupe\u0148.<\/p>\n

Lace sa pripojila k rast\u00facemu po\u010dtu startupov, ktor\u00e9 vyv\u00edjaj\u00fa alternat\u00edvy pokro\u010dilej litografie ASML. Americk\u00e9 spolo\u010dnosti Substrate a xLight vyv\u00edjaj\u00fa zdroje svetla na b\u00e1ze ur\u00fdch\u013eova\u010dov \u010dast\u00edc pre EUV alebo rentgenov\u00fa litografiu, pri\u010dom xLight z\u00edskala 150 mili\u00f3nov dol\u00e1rov z vl\u00e1dneho financovania USA. Canon dodal svoj prv\u00fd n\u00e1stroj pre nanoimprintov\u00fa litografiu na Texask\u00fd in\u0161tit\u00fat elektroniky u\u017e v septembri 2024, zatia\u013e \u010do \u010d\u00ednska spolo\u010dnos\u0165 Prinano ned\u00e1vno predstavila vlastn\u00fd syst\u00e9m nanoimprintovej litografie na dom\u00e1com trhu.<\/p>\n

Pr\u00edstup spolo\u010dnosti Lace sa v\u0161ak od v\u0161etk\u00fdch t\u00fdchto spolo\u010dnost\u00ed l\u00ed\u0161i. Zatia\u013e \u010do Substrate a xLight st\u00e1le vyu\u017e\u00edvaj\u00fa fot\u00f3ny, Lace \u00faplne up\u00fa\u0161\u0165a od elektromagnetick\u00e9ho \u017eiarenia. Hoci Lace u\u017e vytvorila prototypy syst\u00e9mu, medzera medzi laborat\u00f3riom a v\u00fdrobou je, ako v\u017edy, obrovsk\u00e1. V s\u00fa\u010dasnosti spolo\u010dnos\u0165 pl\u00e1nuje nasadi\u0165 testovaciu platformu na pilotnej prev\u00e1dzke do roku 2029, pri\u010dom term\u00edny prechodu na s\u00e9riov\u00fa v\u00fdrobu zatia\u013e nie s\u00fa zn\u00e1me.<\/p>\n

Je potrebn\u00e9 poznamena\u0165, \u017ee ASML str\u00e1vila desa\u0165ro\u010dia a miliardy dol\u00e1rov premenou EUV-litografie z v\u00fdskumnej koncepcie na komer\u010dn\u00fd produkt. V Lace v s\u00fa\u010dasnosti pracuje viac ako 50 \u013eud\u00ed v N\u00f3rsku, \u0160panielsku, Spojenom kr\u00e1\u013eovstve a Holandsku, pri\u010dom prv\u00e9 v\u00fdsledky svojich prieskumov spolo\u010dnos\u0165 prv\u00fdkr\u00e1t predstavila na konferencii SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026.<\/p>\n

Zdroj:<\/strong><\/p>\n